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0.13μm CMOS工艺中ESD防护结构设计的任务书.docx
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0.13μm CMOS工艺中ESD防护结构设计的任务书.docx
该【0.13μm CMOS工艺中ESD防护结构设计的任务书 】是由【niuww】上传分享,文档一共【1】页,该文档可以免费在线阅读,需要了解更多关于【0.13μm CMOS工艺中ESD防护结构设计的任务书 】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。:设计一种有效的ESD防护结构,(ESD)的影响。说明:,可对微电子器件产生破坏性影响。,需要在芯片上设计和实现ESD防护结构,它可以吸收ESD电荷并将其有效地导出到地面。,包括注入等效电荷(IEC)、封装内电路板(PCB)等。,而不会出现损坏或故障。任务要求:。,评估其性能和效率,并选择最佳方案。,并在实验室中进行测试和验证。,评估芯片的性能和可靠性,并推荐改进方案。,说明设计过程、实施和测试结果,并展示理解和思考的深度和广度。
0.13μm CMOS工艺中ESD防护结构设计的任务书 来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.
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