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GaN基发光管材料的MOCVD生长研究的中期报告.docx
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GaN基发光管材料的MOCVD生长研究的中期报告.docx
该【GaN基发光管材料的MOCVD生长研究的中期报告 】是由【niuww】上传分享,文档一共【1】页,该文档可以免费在线阅读,需要了解更多关于【GaN基发光管材料的MOCVD生长研究的中期报告 】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。GaN基发光管材料的MOCVD生长研究的中期报告本研究旨在探究GaN基发光管材料的MOCVD生长方法,以得到高质量、高效率的GaN基发光管材料。目前,我们已经进行了一系列的实验和测试。首先,我们研究了不同的衬底材料对GaN生长的影响。结果表明,使用蓝宝石衬底具有更好的生长质量和晶体缺陷较少的GaN薄膜。接着,我们探究了生长温度的影响。实验结果表明,较高的生长温度可以改善GaN薄膜的结晶度和光学性能。不过,过高的温度会产生更多的缺陷。此外,我们研究了气相组分对GaN的生长和性能的影响。通过改变气相组分的流量比例,我们发现增加NH3流量可以提高GaN的生长速率和光电性能,但对GaN晶体质量的影响较小。最后,我们还尝试了降低InGaN/GaN多量子阱薄膜的厚度,以提高其光电性能。实验结果表明,在一定范围内的厚度减小可以提高其发光效率和色坐标。综上,我们的研究结果为GaN基发光管材料的MOCVD生长提供了重要的实验依据,对实现高质量、高效率的GaN基发光管材料具有重大意义。
GaN基发光管材料的MOCVD生长研究的中期报告 来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.
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