下载此文档

NbNAlNNbN超导隧道结制备过程中的工艺研究的中期报告.docx


文档分类:论文 | 页数:约2页 举报非法文档有奖
1/2
下载提示
  • 1.该资料是网友上传的,本站提供全文预览,预览什么样,下载就什么样。
  • 2.下载该文档所得收入归上传者、原创者。
  • 3.下载的文档,不会出现我们的网址水印。
1/2 下载此文档
文档列表 文档介绍
该【NbNAlNNbN超导隧道结制备过程中的工艺研究的中期报告 】是由【niuwk】上传分享,文档一共【2】页,该文档可以免费在线阅读,需要了解更多关于【NbNAlNNbN超导隧道结制备过程中的工艺研究的中期报告 】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。NbNAlNNbN超导隧道结制备过程中的工艺研究的中期报告这是关于NbN/AlN/NbN超导隧道结制备过程中工艺研究的中期报告。,被广泛应用于量子比特、量子计算和量子通信等领域。NbN/AlN/NbN超导隧道结在这些方面具有很大的潜力。其中,AlN作为介质层可以提高隧道结的质量因数和电容值,而NbN作为超导体保证了隧道结的超导性能。。制备过程中,首先在单晶硅衬底上制备一个25nm厚的NbN基底电极,然后在基底电极上沉积10nm厚的AlN介质层,最后在介质层上沉积成对电解质-超导体(SIS)结构的第二个NbN电极,厚度为20nm。在制备过程中,需要控制的关键参数包括反应气氛、沉积速率、沉积温度和气压等。同时,还需要对样品进行合理的热处理和退火处理,以去除杂质和优化超导性能。,我们发现制备的NbN/AlN/NbN超导隧道结表面光滑,无明显的颗粒和凸起。通过电学测试,我们发现超导隧道结的I-V特性良好,表现出典型的SIS结构,并且具有优异的超导性能,如低电流噪声和高临界电流密度等。,我们证明了采用直流磁控溅射法制备NbN/AlN/NbN超导隧道结是可行的。在后续的实验中,我们将进一步优化制备工艺和提高样品的超导性能,以使NbN/AlN/NbN超导隧道结更加适合实际应用。

NbNAlNNbN超导隧道结制备过程中的工艺研究的中期报告 来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.

相关文档 更多>>
非法内容举报中心
文档信息
  • 页数2
  • 收藏数0 收藏
  • 顶次数0
  • 上传人niuwk
  • 文件大小10 KB
  • 时间2024-03-27