下载此文档

finfet工艺哪年发明.pptx


文档分类:汽车/机械/制造 | 页数:约25页 举报非法文档有奖
1/25
下载提示
  • 1.该资料是网友上传的,本站提供全文预览,预览什么样,下载就什么样。
  • 2.下载该文档所得收入归上传者、原创者。
  • 3.下载的文档,不会出现我们的网址水印。
1/25 下载此文档
文档列表 文档介绍
该【finfet工艺哪年发明 】是由【晓楠】上传分享,文档一共【25】页,该文档可以免费在线阅读,需要了解更多关于【finfet工艺哪年发明 】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。FinFET工艺的发明时间Contents目录引言FinFET工艺的发明历程FinFET工艺的优势与特点FinFET工艺的应用领域未来FinFET工艺的发展趋势结论引言01随着摩尔定律的发展,传统的平面晶体管技术逐渐面临物理极限的挑战。为了进一步提高集成电路的性能,需要探索新的晶体管结构。FinFET(FinField-EffectTransistor)工艺就是在这样的背景下诞生的。背景介绍1989年,斯坦福大学的胡正明教授首次提出了FinFET的概念,并申请了专利。1998年,台湾积体电路制造公司(TSMC)成功研制出基于FinFET技术的12英寸晶圆。2002年,IBM率先将FinFET技术应用于生产高性能处理器芯片。2004年,英特尔公司宣布在其处理器中采用FinFET技术,推动了FinFET技术的广泛应用。01020304发明时间概述FinFET工艺的发明历程02研究初期1990年代初学术界开始研究FinFET工艺,探索如何提高集成电路的性能和降低功耗。1998年加州大学伯克利分校的研究团队首次提出FinFET的概念,并进行了初步实验验证。FinFET技术获得突破,成功实现了高性能、低功耗的集成电路。随着制程技术的不断进步,FinFET工艺逐渐成为主流技术,广泛应用于高性能处理器、存储器等集成电路产品。技术突破2004年2001年随着集成电路产业的发展,各大半导体厂商开始将FinFET工艺应用于商业产品,如高性能处理器、图形处理器等。2007年随着制程技术的不断进步,FinFET工艺逐渐成为主流技术,广泛应用于智能手机、平板电脑、笔记本电脑等消费电子产品。2010年代商业化应用FinFET工艺的优势与特点03

finfet工艺哪年发明 来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.

相关文档 更多>>
非法内容举报中心
文档信息
  • 页数25
  • 收藏数0 收藏
  • 顶次数0
  • 上传人晓楠
  • 文件大小4.41 MB
  • 时间2024-03-28