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浅沟槽隔离(STI)刻蚀工艺条件研究的中期报告.docx
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浅沟槽隔离(STI)刻蚀工艺条件研究的中期报告.docx
该【浅沟槽隔离(STI)刻蚀工艺条件研究的中期报告 】是由【niuww】上传分享,文档一共【2】页,该文档可以免费在线阅读,需要了解更多关于【浅沟槽隔离(STI)刻蚀工艺条件研究的中期报告 】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。浅沟槽隔离(STI)刻蚀工艺条件研究的中期报告注:以下报告的翻译可能不太准确,还请谅解。中期报告:浅沟槽隔离(STI)(STI)是一种常用的槽隔离技术。传统的STI工艺中,通过刻蚀硅槽将相邻的晶体管电气隔离,以避免晶体管之间的串扰。然而,此类工艺存在一些问题,例如切缘偏移、磷掺杂损失等,因此需要进一步研究STI工艺的优化。(1)选择材料:Siliconwafer(2)挑选实验参数:刻蚀深度、刻蚀速率、刻蚀介质、温度、时间等(3)设计实验流程:根据选定参数设计刻蚀实验流程(4)分析实验结果:通过表面形貌、断面形貌、,使得工艺可靠性和加工效率得到提高。具体来说,希望达到以下效果:(1)减小切缘偏移(2)最大程度减小材料损失(3),我们已经完成了实验步骤的设计,并进行了一些初步的实验。目前实验结果还不够准确,需要进一步探究和测试。下一步的工作是优化实验条件,进一步测试和表征。
浅沟槽隔离(STI)刻蚀工艺条件研究的中期报告 来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.
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