光学镀膜习题.doc

1 、在膜系中,光学厚度为四分之一长中心波长的膜层,对中心波长的反射率没有影响。这个膜层称为虚设层。 2 、测量薄膜器件的反射率、透过率等光谱特性曲线的常用仪器为分光光度计。 3 、任何一个复杂的薄膜系统,其反射率的计算问题都可以通过其等效界面对应的等效光学导纳进行计算。 4 、偏振中性分束棱镜的设计原理,利用的是光束倾斜入射时的偏振效应。 5 、在截止滤光片中,通常把抑制短波区,透射长波区的滤光片称为长波通滤光片。 6 、在截止滤光片中,通常把抑制长波区,透射短波区的滤光片称为短波通滤光片。 7 、光学真空镀膜机大多数是热蒸发真空镀膜设备,主要由三大鄱分组成: 真空系统、热蒸发系统、膜厚控制系统。 8 、光学真空镀膜机的膜厚控制系统通常包括光学膜厚控制仪、石英晶体振荡膜厚控制仪。 9 、光学膜厚控制系统对膜厚的监控是根据光学信号的极值点来判断膜层厚度。 10 、石英晶体振荡膜厚控制系统监控膜厚主要是利用了石英晶体的压电效应和质量负荷效应。 11 、光学薄膜制备过程中常用的热蒸发方式为电阻蒸发、电子枪蒸发。 12 、光学真空镀膜机中用于测量真空度的仪器是真空计,包括电偶真空计和电离真空计两种。 13 、影响薄膜器件光学性能的膜层光学参数是膜层的折射率和厚度,通称为光学常数。 14 、提高薄膜沉积速率的方法主要有两种: ①提高蒸发源的温度; ②增大蒸发源的面积。 15 、修正挡板是为了保证不同位置膜层厚度的均匀性。 16 、薄膜的应力包括压应力和张应力。 17 、在 25℃条件下,平均自由程 l 与压强 P 之间的关系为: pl=O . 667(cm · Pa) . 18 、在热蒸发制备光学薄膜的过程中,薄膜的附着力、致密度往往比较差,为了改善薄膜的品质,常采用的方式是离子辅助沉积。 19 、膜层与基底组合的特征矩阵 1 1 12 1 1 1 cos sin 1 sin cos iBn C n n ? ?? ?? ?? ?? ?? ??? ?? ?? ?? ?? ?? ?? ?,其中 1 1 1 1 1 1 cos sin sin cos inn ? ?? ?? ?? ?? ?? ?? ?称为膜层的特征矩阵。 20 、介质的光学导纳 0 0 0 Y N NY ? ?? ?,其中 0Y ,称为自由空间光学导纳。 21、 Y=H /E, 介质中沿 K0 方向传播的电磁波的磁场强度与电场强度之比等于所在介质的光学导纳。 22 、对于无吸收膜系有 T+R=1 ,对于有吸收膜系 A+R+T=1 。 23 、光学零件的表面反射会在光学系统中导致两个严重的后果: ①光能量的损失。使像的亮度降低。②杂