pecvd工艺.ppt

PECVD 技术 2目录? SiNx:H 简介? SiNx:H 在太阳电池中的应用? PECVD 原理?光学特性和钝化技术?系统结构及安全事项 3 SiNx:H 简介?正常的 SiNx 的 Si/N 之比为 ,即 Si3N4 。但是 PECVD 沉积氮化硅的化学计量比会随工艺不同而变化, Si/N 变化的范围在 -2 左右。除了 Si和N, PECVD 的氮化硅一般还包含一定比例的氢原子,即 SixNyHz 或 SiNx:H 。 4 SiNx:H 简介?物理性质和化学性质: ?结构致密,硬度大?能抵御碱金属离子的侵蚀?介电强度高?耐湿性好?耐一般的酸碱,除 HF 和热 H3PO4 5 SiNx:H 简介? Si/N 比对 SiNx 薄膜性质的影响?电阻率随 x增加而降低?折射率 n随x增加而增加?腐蚀速率随密度增加而降低 6 SiNx 在太阳电池中的应用?自从 1981 年( Hezel ), SiNx 开始应用于晶体硅太阳电池: *减反射膜*钝化薄膜( n+ 发射极) 7 SiNx 在太阳电池中的应用 SiNx 的优点: ?优良的表面钝化效果?高效的光学减反射性能(厚度和折射率匹配) ?低温工艺(有效降低成本) ?含氢 SiNx:H 可以对 mc-Si 提供体钝化 8 SiNx 在太阳电池中的应用 9 PECVD ? PECVD = Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 即“等离子增强型化学气相沉积”,是一种化学气相沉积,其它的有 HWCVD , LPCVD , MOCVD 等。 PECVD 是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。 10 PECVD ——等离子体定义?地球上,物质有三态,即:固,液,气。?其共同点是由原子或分子组成,即基本单元是原子和分子,且为电中性。?等离子体:气体在一定条件下受到高能激发, 发生电离,部分外层电子脱离原子核,形成电子、正离子和中性粒子混合组成的一种形态, 这种形态就称为等离子态,即第四态。?等离子体从宏观来说也是电中性,但是在局部可以为非电中性。