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刻蚀+PECVD培训资料
内容提要
等离子刻蚀:
等离子刻蚀原理
等离子体刻蚀机组成
等离子体刻蚀质量控制及检测
拟解决的问题
PECVD镀SiNx:H薄膜
PECVD镀膜技术
PECVD工作流程
SiN薄膜质量异常
拟解决的问题
等离子体刻蚀是采用高频辉光放电反应,使反应气体激活成活性粒子,如原子或游离基,这些活性粒子扩散到需刻蚀的部位,在那里与被刻蚀材料进行反应,形成挥发性生成物而被去除。它的优势在于快速的刻蚀速率同时可获得良好的物理形貌。(这是各向同性反应)
这种腐蚀方法也叫做干法腐蚀。
等离子刻蚀的基本原理
等离子刻蚀的基本原理
等离子刻蚀的基本原理
母体分子CF4在高能量的电子的碰撞作用下分解成多种中性基团或离子。
这些活性粒子由于扩散或者在电场作用下到达SiO2表面,并在表面上发生化学反应。
生产过程中,CF4中掺入O2,这样有利于提高Si和SiO2的刻蚀速率。
以及它们的离子
C
F,
CF,
,
CF
,
CF
CF
2
3
e
4
¾
®
¾
6
等离子刻蚀机的组成
等离子刻蚀机的组成:
1、反应室
2、真空系统
3、送气系统
4、高频电源
5、匹配器
7
反应室:
里面是石英缸,外面
是线圈,线圈在高频
电的激发下起辉,产
生微波与石英缸内的
特气反应,生成活性
离子基。
等离子刻蚀机的组成
石英缸
线圈
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真空系统:
采用机械泵抽真空(上海鑫磊公司生产)。主要是用泵对反应室抽真空,把一些反应生成物通过真空系统抽到尾气排放管道。
等离子刻蚀机的组成
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送气系统:
刻蚀常用的工艺气体CF4和O2,在车间外面有特气房,通过管道和刻蚀机的进气孔连接到一起,在车间内有阀门,用的时候打开阀门就可以使用了
高频电源:
给线圈放高压电
等离子刻蚀机的组成
高频电源
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匹配器
使功率稳定在一个固定的位置,只能微调,主要还是调高频电源上的功率调节旋扭。
等离子刻蚀机的组成