下载此文档

amd5nm工艺架构.pptx


文档分类:通信/电子 | 页数:约24页 举报非法文档有奖
1/24
下载提示
  • 1.该资料是网友上传的,本站提供全文预览,预览什么样,下载就什么样。
  • 2.下载该文档所得收入归上传者、原创者。
  • 3.下载的文档,不会出现我们的网址水印。
1/24 下载此文档
文档列表 文档介绍
该【amd5nm工艺架构 】是由【晓楠】上传分享,文档一共【24】页,该文档可以免费在线阅读,需要了解更多关于【amd5nm工艺架构 】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。AMD5nm工艺架构目录引言AMD5nm工艺技术解析AMD5nm工艺的应用场景AMD5nm工艺面临的挑战与解决方案AMD5nm工艺的未来展望01引言5nm工艺使得芯片上的晶体管密度大幅提升,从而提高了集成度,有利于实现更小尺寸、更高性能的芯片设计。提高晶体管密度相比前一代工艺,5nm工艺在降低功耗方面有显著提升,有助于延长设备续航时间,减少散热问题。降低功耗5nm工艺能够提供更高的时钟频率和更低的延迟,从而提升芯片性能,加速运算速度。加速运算速度5nm工艺的重要性123AMD在5nm工艺上的布局和研发成果,为整个半导体行业树立了新的标杆,推动了行业的技术进步。引领行业创新AMD通过采用5nm工艺,有望推出更具竞争力的产品,打破现有市场格局,对竞争对手形成压力。打破市场格局AMD在5nm工艺上的突破,为摩尔定律的演进注入了新的活力,有望延续摩尔定律的发展趋势。加速摩尔定律的演进AMD在5nm工艺中的地位和影响02AMD5nm工艺技术解析极紫外光刻技术使用极紫外光刻技术,实现更精细的电路图案,提高芯片集成度。双重曝光采用双重曝光技术,进一步减小特征尺寸,提高芯片性能。浸润式光刻技术利用浸润式光刻技术,降低光刻成本,提高生产效率。5nm工艺的制程技术环绕栅极晶体管采用环绕栅极晶体管结构,降低漏电和功耗,提高稳定性。高介电常数金属栅极采用高介电常数金属栅极,提高晶体管开关速度和可靠性。鳍式场效应晶体管采用鳍式场效应晶体管结构,提高晶体管性能和集成度。5nm工艺的晶体管结构03温度感知动态电压频率调节采用温度感知动态电压频率调节技术,确保芯片在各种工作负载下都能保持稳定和高效性能。01低功耗设计通过优化电路设计和制程技术,降低芯片功耗,延长电池寿命。02高性能表现通过改进晶体管结构和制程技术,提高芯片性能和能效比。5nm工艺的功耗和性能优化03AMD5nm工艺的应用场景

amd5nm工艺架构 来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.

相关文档 更多>>
非法内容举报中心
文档信息
  • 页数24
  • 收藏数0 收藏
  • 顶次数0
  • 上传人晓楠
  • 文件大小2.13 MB
  • 时间2024-03-28