下载此文档

晶体硅薄膜的低温制备技术及其光学性能研究的中期报告.docx

文档分类：研究报告 | 页数：约2页举报非法文档有奖

1/2

下载提示

1.该资料是网友上传的，本站提供全文预览，预览什么样，下载就什么样。
2.下载该文档所得收入归上传者、原创者。
3.下载的文档，不会出现我们的网址水印。

同意并开始全文预览

(约 1-6 秒)

1/2 下载此文档

文档列表 文档介绍

该【晶体硅薄膜的低温制备技术及其光学性能研究的中期报告】是由【niuww】上传分享，文档一共【2】页，该文档可以免费在线阅读，需要了解更多关于【晶体硅薄膜的低温制备技术及其光学性能研究的中期报告】的内容，可以使用淘豆网的站内搜索功能，选择自己适合的文档，以下文字是截取该文章内的部分文字，如需要获得完整电子版，请下载此文档到您的设备，方便您编辑和打印。,被广泛应用于太阳能电池、传感器等领域。但是其制备过程中需要高温条件,造成能源浪费和成本增加。因此,研究晶体硅薄膜的低温制备技术,具有重要的实际应用价值。,并选取不同的制备温度进行比较分析。同时,对所得样品进行光学性能测试,确定其光学带隙和折射率等参数。:(1)清洗衬底。使用***、乙醇和去离子水依次清洗衬底,使其表面保持洁净。(2)生长硅层。将衬底放入反应室中,并通入硅源气体和载气体,使其反应生成硅层。(3)退火处理。在高温条件下进行退火处理,使生成的硅层结晶化,提高其结晶度和光学性能。,发现在较低的制备温度下(300℃),生成的硅层表面较为光滑,晶体结构较完整。在光学性能测试方面,对不同制备温度下所得晶体硅薄膜进行透射光谱测试,得到其光学带隙和折射率等参数。结果表明,在低温条件下制备的晶体硅薄膜具有较宽的光学带隙和较小的折射率等优良性能。,并给出了其在光学性能方面的特点和优势。这将对晶体硅薄膜的应用和产业化发展产生积极的推动作用。

晶体硅薄膜的低温制备技术及其光学性能研究的中期报告来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.