等离子体表面处理技术讲座
-------奥坤鑫科技有限公司
主讲:刘善双
1、什么是等离子体及怎样建立等离子体;
等离子体
(中文)
=
PLASMA
(英文)
=
电浆
(台湾)
等离子体的发现:
1879、英国物理学家、 William Crookes----物质第四状态
1929、美国化学物理学家、 Langmuir----等离子体
等离子体定义:
部分或是全部电离的气体;
主要包括:电子、离子、中性基团、分子、光子
固体液体气体等离子体 能量能量能量
等离子体的形成
物质的四种状态
什么是等离子体
等离子体成分,对外呈现电中性
物质的第四种形态
低温等离子体的建立系统(PCB行业);水平式和垂直式
等离子体工业生产模型
产生低温等离子体系统
等离子体主要作用:清洁、蚀刻和改性
清洁:去除表面有机物污染和氧化物
蚀刻:化学反应性蚀刻、物理蚀刻
改性:粗化、交联
2、等离子体在现代工业中的主要用途
等离子体的主要用途:
半导体IC行业
蚀刻小孔,精细线路的加工
IC芯片表面清洗
绑定打线
沉积薄膜
3、H2/N2等离子体对以PTFE基高频板改性的研究;
前言
通讯高保密性
高频通信
高速传输
低介电常数
低介质损耗因素
耐高温
聚苯醚、***酸脂
聚丁二烯
最常用:PTFE
PTFE&聚四***乙烯
物理特性:介电常数低、介电强度高、介质损耗因素小、半阻燃性、耐热性好;
化学特性:强的耐化学腐蚀性、
PTFE难以被水润湿的原因
C
C
F
F
F
F
n
(31∽34达因/厘米),接触角大;
,化学稳定性好;
,属非极性分子;
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