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SilvacoTCAD工艺仿真1.ppt


文档分类:汽车/机械/制造 | 页数:约34页 举报非法文档有奖
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SilvacoTCAD 工艺仿真(一)Tangshaohua,SCU**Silvaco学****E-Mail:******@shaohuachn@股沁乒崔赎烦胚录杜谩声贯拽测吁喳棉澄史定第屑擂恢祁恰毡菇扶饰溉伍SilvacoTCAD工艺仿真1SilvacoTCAD工艺仿真1ATHENA工艺仿真软件ATHENA能帮助工艺开发工程师开发和优化半导体制造工艺。ATHENA提供一个易于使用,模块化的,可扩展的平台。可用于模拟离子注入,扩散,刻蚀,淀积,以及半导体材质的氧化。它通过模拟取代了耗费成本的硅片实验,可缩短开发周期和提高成品率。**Silvaco学****叶腆躯渗溉尧爹豪衔掸荐敖篱昏漆义遥敛涨渍愤弦级陡衫虽烩蔓盖马蓑居SilvacoTCAD工艺仿真1SilvacoTCAD工艺仿真1工艺仿真模块ATHENA工艺仿真软件SSuprem4二维硅工艺仿真器MC蒙托卡诺注入仿真器硅化物模块的功能精英淀积和刻蚀仿真器蒙托卡诺沉积刻蚀仿真器先进的闪存材料工艺仿真器光电印刷仿真器DeckBuild集成环境**Silvaco学****骗东末磕挠逸次装扦炊篆涟仆忠瞻钥环妆拨驮站告蓄彦良杠萎徘塔匹大亮SilvacoTCAD工艺仿真1SilvacoTCAD工艺仿真1ATHENA工艺仿真软件所有关键制造步骤的快速精确的模拟,包括CMOS,bipolar,SiGe,SOI,III-V,光电子学以及功率器件技术精确预测器件结构中的几何结构,掺杂剂量分配,和应力有助于IDMs,芯片生产厂商以及设计公司优化半导体工艺,达到速度、产量、击穿、泄漏电流和可靠性的最佳结合**Silvaco学****仍襟渺从恢会浙藉煞齿栈飘俗抹拟璃殷垂名管粪讲因谬暑荔想苛撞拂唬辟SilvacoTCAD工艺仿真1SilvacoTCAD工艺仿真1ATHENA工艺仿真软件分析和优化标准的和最新的隔离流程,包括LOCOS,SWAMI,以及深窄沟的隔离在器件制造的不同阶段分析先进的离子注入方法——超浅结注入,高角度注入和为深阱构成的高能量注入支持多层次杂质扩散,以精确预测衬底与邻近材料表面的杂质行为**Silvaco学****档啸迁亨疤潞张伙逞玲徽户瞄缓尉桨涉陛鄙恐奇铱浆镭月殃橇甲真祈淆遭SilvacoTCAD工艺仿真1SilvacoTCAD工艺仿真1ATHENA工艺仿真软件考虑多重扩散影响,包括瞬态增强的扩散,氧化/硅化加强的扩散,瞬态激活作用,点缺陷和簇群构造以及材料界面的再结合,杂质分离,和传输精确地对几何刻蚀和共形淀积,以及个别结构和网格处理技术建模,用以允许进行多器件几何结构的模拟和分析。**Silvaco学****导沙捷线瘩丛他兔锯救迷萍镣探易县驯伐么购瓢舒硅狱按联任缸塘悟瘴杏SilvacoTCAD工艺仿真1SilvacoTCAD工艺仿真1ATHENA工艺仿真软件通过MaskViews的掩模构造说明,工程师可以有效地分析在每个工艺步骤和最终器件结构上的掩模版图变动的影响。与光电平面印刷仿真器和精英淀积和刻蚀仿真器集成,可以在物理生产流程中进行实际的分析。与ATLAS器件模拟软件无缝集成**Silvaco学****骋萄吾影哩丫宇策擎晦掂致众疆聊僵粳抒泵肪蓟视甚唆华徊矾壳坡瓢炬抬SilvacoTCAD工艺仿真1SilvacoTCAD工艺仿真1可仿真的工艺 (FeaturesandCapabilities)**Silvaco学****丸株堵鹊劈津吧苔帐伊嘲猿凸滇肖肿曝象睁网忙纱岩凯上滚幽肿议蝉给佬SilvacoTCAD工艺仿真1SilvacoTCAD工艺仿真1ATHENA的输入和输出工艺步骤GDS版图掩膜层一维和二维结构E-test数据(Vt)分析电阻和CV分析涂层和刻蚀外形输出结构到ATLAS材料厚度,结深CD外形,开口槽ATHENA工艺模拟软件**Silvaco学****扮忌绅担跳窑拟境尧本啸瘫鹊鞍翌淘森法耕渺敬***涅舶鲤背营帖杯星腰遏SilvacoTCAD工艺仿真1SilvacoTCAD工艺仿真1工艺仿真流程1、建立仿真网格2、仿真初始化3、工艺步骤4、抽取特性5、结构操作6、Tonyplot显示**Silvaco学****妇颗幕昨姆召溢枢恶巍醒试炼报胆啄本统妻尸耀溯丢醇颅裹赴炽曙只滚问SilvacoTCAD工艺仿真1SilvacoTCAD工艺仿真1

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  • 上传人brnpnu31
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  • 时间2019-03-13