SoCEncounter设计流程ppt课件.ppt

SoCEncounterDesignFlowSMIC65nmprocess*&*: 需要输入的内容包括:Verilogfiles: 芯片设计的顶层单元网表Topcellname: 填写顶层单元名称Timinglibrary: 包括Max,Min工艺库延迟信息LEFfiles: 所有单元的物理库信息文件Timingconstraintfile: 时序分析约束文件(SDC)IOAssignmentfile: IO单元位置信息文件IPO/CTScellname/footprint: 时序分析/时钟优化所用单元名称Power/Groundname: 电源/地名称(包括全局和局部)RCExtraction: RC提取所用包含寄生参数文件SIAnalysis: 信号完整性分析所用cdb文件*: 第一次设计时,需要详细填写上述文件,填写完成以后,可以保存(save),以备下次调用。设计中也可以调用(load)现成的配置文件(.conf)。如: 命令: loadConfig$mitConfig 上述内容包括详细的工艺库信息和设计数据、约束信息等。*: ####scantraceandgenerateoriginalscandef defIninput/ :读入初始扫描链 setAnalysisMode-hecksnoAsync :设置时序分析模式 set_globaltiming_apply_default_primary_input_assertionfalse set_globaltiming_clock_phase_propagationboth setAnalysisMode-multipleClockPerRegistertrue setPlaceMode-reorderScantrue setExtractRCMode-enginedefault scanTrace–verbose :扫描链检测和报告 defOutBySection-ps-s–scanChainsoutput/ ####scantraceandgenerateoriginalscandef :输出扫描链 另外还有specifyScanCell(指定扫描单元)和specifyScanChain(指定名称和输入输出端口)命令等。*: monpowerformat 内容包括: 参数设置(CPF文件版本及设置指定SDC文件);进行特殊单元定义和状态转换操作条件;定义工艺库组;生成功率域;指明每个功率域的各种工作模式和工艺角,并根据MMMC方式产生二者的各种可能组合,指明每种view所用的工艺库、SDC文件、电源/地连接及电源电压大小。具体内容及格式见CPF文件。 命令: loadCPF$mitCPF*: MMMC=multi-modeandmulti-corner即多角多模分析法 一般情况下有以下几种分析方法:FullMMMC(完全方法) 分析所有工作模式下的最好最坏角点。ScenarioMMMC(情景方法) 有时候,一些模式仅仅和部分角点有关系,如果使用fullMMMC模式,会生成一些额外的模式-角点关系,需要进行额外的分析和优化,从而浪费时间和影响收敛,可以通过使用情景方法,把角点只和相关的模式绑定进行分析,使得设计更真实、更容易收敛。Margin-EnhancedMethodMMMC(容限增强方法) 首先使用MC方法生成基于两个角点的扩展容限,然后将所生成的容限添加到相关模式时序约束中,最后只使用MM方法进行分析后优化。*: MMMC时序分析方法产生需要分析的各个view及产生分析结果的步骤如下:Createconstraintmode 生成芯片每种功能模式(如:normal,setup,bist,scan四个工作模式)下的约束文件(*.SDC)。定义功率域(如:normal_pd,lv_pd,pso_pd三个功率域),指定每种功率域下bc、w