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国内调剖技术现状.ppt
文档介绍:
二○一五年五月国内调剖技术应用现状阶段时期说明第一阶段油井单井堵水阶段。50-60年代探索研究堵水的一些方法和化学剂,开展了少量的油田应用实践,取得了一定的成效。第二阶段以油井堵水和机械堵水为主的发展阶段。70-80年代以大庆油田为主研制了多种机械堵水的方法和井下工具,开展了现场应用;以胜利油田、华北油田等为主开展了化学堵水的研究和应用。以上均取得了良好的增油降水效果。第三阶段以注水井调剖为主的发展阶段。80年代前期掀起了注水井调剖技术发展的高潮,为以油田区块、井组为单元的整体措施的形成打下了基础。第四阶段以油田区块为单元的整体堵水调剖技术的发展阶段。80年代后期堵水技术跳出了单井处理的范围,大规模地开展了从油藏整体出发,以油田、区块为单元的整体堵水调剖处理,相应地形成了与之配套技术。第五阶段油藏深部调剖技术的发展阶段。90年代后期随着油田含水不断升高,提出了在油藏深部调整吸水剖面,迫使液流转向,提高波及效益,改善注水开发采收率的要求,从而形成了深部调剖研究的新热点。相应地研制了可动性凝胶、弱凝胶、颗粒凝胶胶囊、凝胶等新型化学剂。进入新的世纪以来,油田堵水调剖技术出现了一些新动向,主要有:弱凝胶调驱技术,稠油热采井高温调剖技术,深井超深井堵水调剖技术,注聚合物油藏的调剖堵水技术,以及水平井堵水治水技术等。我国从20世纪50-60年代开展调剖堵水工作,调剖堵水大体可以划分为5个发展阶段:(一)国内堵水调剖技术发展历程我国研究和开发了7类化学剂:沉淀型无机盐类、聚合物冻胶类、颗粒类、泡沫类、树脂类、微生物类及其他类等共7类,近年来发展了新型聚合物微球深部调剖堵水技术,具有受外界影响小、可用污水配制、耐高温高盐等优点。(二)国内调剖堵水化学剂的应用现状聚合物冻胶类微生物类颗粒类沉淀型无机盐类泡沫类调剖剂其他类树脂类沉淀型调剖剂,是指两种或多种能在水中反应生成沉淀封堵高渗透层的化学物质,多为无机物。该类调剖剂一般采用双液法施工,即将两种或多种工作液以1:1的体积比分别注入地层,中间用隔离液分隔。当其向地层推进一定距离后,隔离液逐渐变稀、变薄,失去分隔作用,注入的不同工作液相遇,反应生成沉淀,封堵高渗透层。1.沉淀型序号名称基本组成,%(质量)主要性能与适用条件1水玻璃***化钙Na2O·mSiO2:15~20;CaCl2:17~26;1.粘度低、易泵送、胶凝时间短、凝胶强度高,堵塞率85%~95%,抗盐、耐温。2.适用于40℃~80℃砂岩高渗透地层堵水调剖。2聚丙烯******化钙HPAN:6.5~8.5CaCl2:20~30;1.抗剪切、沉淀物耐温、稳定期长、可堵可解。2.适用于50℃~90℃砂岩高渗透地层堵水调剖。3碳酸钠三***化铁Na2CO3:5~20;FeCl3:5~30;适用于砂岩高渗透地层堵水调剖。4水玻璃三***化铁Na2O·mSiO2:1~25FeSO4:5~13适用于砂岩高渗透地层堵水调剖。5水玻璃***化镁Na2O·mSiO2:1~25MgCl2:1~15适用于砂岩高渗透地层堵水调剖。常用沉淀型调剖剂OCrOOC=O-CH-CH2-NHCH2NHC=O-CH-CH2-O冻胶类调剖剂是以水溶性线性高分子材料(聚丙烯酰***、聚丙烯***、木质素磺酸盐等)为主剂,以高价金属离子(铬、铝、钛等)或醛类为交联剂,在地层条件下发生交联反应,生成具有网状结构的不溶于水的冻胶,堵塞地层孔隙,阻止注入水沿高渗透层流动。Cr3+交联:-CH2-CH--CH-CH2-醛类交联:-CH2-CH-=OO=C2.冻胶类调剖剂冻胶类调剖剂木素冻胶聚丙烯酰***冻胶其他类冻胶序号名称基本组成,%主要性能与适用条件1铬木素冻胶调剖剂木钙:2.0~5.0Na2Cr2O7:4.5适用于50℃~70℃的地层大剂量调剖木钠:4.0~6.0Na2Cr2O7:2.2~2.5适用于50℃~70℃的地层大剂量调剖2木质素磺酸钙调剖剂木钙:3.0~6.0PAM:0.7~1.1CaCl2:0.7~1.1Na2Cr2O7:1.0~1.11.木钙中的还原糖、羟基和醛基在一定条件下还原Cr6+为Cr3+2.Cr3+交联木钙、PAM,木钙交联PAM,形成结构复杂的冻胶3.适用于终向渗透率级差大、油层厚度大的注水井调剖常用的木素冻胶调剖剂序号名称基本组成,%(质量)主要性能与适用条件3木质素磺酸钠调剖剂木钠:4.0~5.0;PAM:1.0;CaCl2:1.0~1.6;Na2Cr2O7:1.0~1.4。1.成胶前粘度低(0.10mPa·s~0.15mPa·s)、成胶时间可控、热稳定性好、可酸化解堵。2.适用于温度低于90℃的地层调剖。木钠:3.0~4.0;PAM:0.4~0.6;CaCl2:0.5~0.6;Na2Cr2O7:0.5~0.6。1.成胶前粘度低(0.10mPa·s 内容来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.