纳米薄膜材料.ppt

、离子束溅射沉积使用这种方法制备纳米薄膜是在多功能离子束辅助沉积装置上完成。,工作气压为7MPa。+离子束溅射相应的靶材沉积得到,而沉积聚四氟乙烯材料需要使用较小的束流和束压(115KeV/30mA)。沉积陶瓷材料时的速率为6nm/min,沉积金属和聚四氟乙烯材料时的速率为12nm/min。哼渴宾屋妈勿肥鹤澄祸奄牲懦端砷盔始讥巾刊达侦尹辞牙胀申综比燥涂扳纳米薄膜材料纳米薄膜材料2、磁控溅射沉积磁控溅射沉积法制备薄膜材料是在磁控溅射仪上实现的,其真空室中有三个阴极靶(一个直流阴极,两个射频阴极),三个阴极可分别控制。首先将溅射材料安装在射频阴极上,通过基片架转动,基片轮流在两个射频靶前接受溅射原子,控制基片在各靶前的时间,即可控制多层膜的调制波长。同时在真空室内通入一定压力的气体,可以作为保护气氛,或与溅射金属原子反应生成新的化合物,沉积到基片上。此外在基片高速旋转的条件下,还可制备近似均匀的复合薄膜。磁控溅射法具有镀膜速率易于控制,稳定性好,溅射材料不受限制等优点。绢孵荡构喘稀曙凑崇冉养惑晦傍哉狸逊粒洗惠催拘坐撞涣威外沂沤峭方驹纳米薄膜材料纳米薄膜材料3、低能团簇束沉积法低能团簇束沉积方法是首先将所沉积材料激发成原子状态,以Ar、He作为载气使之形成团簇,同时采用电子束使团簇离化,利用质谱仪进行分离,从而控制一定质量、一定能量的团簇沉积而形成薄膜。在这种条件下沉积的团簇在撞击表面时并不破碎,而是近乎随机分布;当团簇的平均尺寸足够大,则其扩展能力受到限制,沉积薄膜的纳米结构对团簇尺寸具有很好的记忆特性。挞度开昔蔓繁脐泳薯烧星伯傀梦软领碱宵凶谐邱盆绵予阑心熟途郑逼然恨纳米薄膜材料纳米薄膜材料4、电沉积法电沉积法可以制得用喷射法不能制得的复杂形状,并且由于沉积温度较低,可以使组分之间的扩散程度降到最低。匈牙利的EnikoTothKadar利用交流脉冲电源在阴极镀制纳米晶Ni膜,试样制备与普通电镀相同,电镀时电流保持不变,idep=20Adm-2,脉冲电流通电时间ton,,,,1,10s之间变化。此外用电沉积法在AISI52100钢基体上制得铜-镍多层膜,试样预先淬硬到HRC62左右,然后抛光清洗,进行电沉积,镀铜时电压u=1600mV,i=-2,镀镍时电压u=600mA,i=-2。呐渔左猫笆做蛹摄翠忱哀敌惩半徘墙求躬袭挝襄镜嘘赁坷货幅仕耗梢糟刨纳米薄膜材料纳米薄膜材料5、胶体化学法采用溶胶-凝胶法制备纳米薄膜,首先用化学试剂制备所需的均匀稳定水溶胶,然后将溶胶滴到清洁的基体上,在匀胶机上匀胶,或将溶胶表面的陈化膜转移到基体上,再将薄膜放入烘箱内烘烤或在自然条件下干燥,制得所需得薄膜。根据制备要求的不同,配制不同的溶胶,即可制得满足要求的薄膜。用溶胶-凝胶法制备了纳米微孔SiO2薄膜和SnO2纳米粒子膜。此外,还有用这种方法制备TiO2/SnO2超颗粒及其复合LB(Langmuir/Buldgett)膜、SiC/AIN膜、ZnS/Si膜、CuO/SiO2膜的报道。裔尽灿渣召藕眺私泵来掂摧鸽胰酶僻疯江郎瑞两召磕慰肆迷剂貌清瞎宋免纳米薄膜材料纳米薄膜材料