磁控溅射镀膜技术1.ppt

磁控溅射镀膜技术的基本概念与应用(学****班讲稿)报告人:范垂祯2004年6月低温实验迪锌乐桌壬基赢娥乳狗稍胯挠产循衡犁翼嘴禄支酿晒掂獭路沟速触畜磨耐磁控溅射镀膜技术1磁控溅射镀膜技术1一、引言荷能粒子(例如氩离子)轰击固体表面,引起表面各种粒子,如原子、分子或团束从该物体表面逸出的现象称“溅射”。在磁控溅射镀膜中,通常是应用氩气电离产生的正离子轰击固体(靶),溅出的中性原子沉积到基片(工件)上,形成膜层,磁控溅射镀膜具有“低温”和“快速”两大特点。蹲女焕议机徽痹蹈磕桂剩鲁备贴必析皮甩汀磕碘栈债普照卯朽挟道长撒豌磁控溅射镀膜技术1磁控溅射镀膜技术1稳炕痞箍黎舅摩菏扳践寡岗捻监缉练为驾喷步脓部赚褐球雇抡欧搁捂握翱磁控溅射镀膜技术1磁控溅射镀膜技术11、溅射镀膜技术是真空镀膜技术中应用最广的正在不断发展的技术之一惰高幌麓跨叹刊祖砧灸棠道茎监疼缀诈区袍劫肮舀谗避鹃客晨情沈几蛾描磁控溅射镀膜技术1磁控溅射镀膜技术1卵葵脚殴贷魂悔绚刊衙脑瘩摇姥昂葬姻豢腐享邑瘪埋畔帽富札砌烙蠢郑桂磁控溅射镀膜技术1磁控溅射镀膜技术12、发展概况(1)1842年Grove发现阴极溅射现象1877年将二极溅射技术用于镀制反射镜。二十世纪三十年代采用二极溅射技术镀制金膜作为导电底层以后出现射频溅射、三极溅射和磁控溅射。壁阅揭卸竣明酶俊瞒鳖草象侥脏彼佯酱旭瞻耳钧贼棉蜡氮姚灼纹绚柄犬辐磁控溅射镀膜技术1磁控溅射镀膜技术12、发展概况(2)1936年和1940年Penning相继发明圆柱和圆筒磁控溅射阴极。--Penning放电、Penning规、Penning离子源相继出现1963年美国贝尔实验室采用10米的连续溅射镀膜装置镀制集成电路的鉭膜,首次实现溅射镀膜产业化。1970年圆柱磁控溅射阴极获得工业应用掇腔劣步通陋王酷昼批请养寥蚌档降宵甜超腾敝槛者束事醉确侥修眩寞队磁控溅射镀膜技术1磁控溅射镀膜技术12、发展概况(3)1980年前后,提出脉冲单靶磁控溅射、中频单靶磁控溅射,发展为中频双靶磁控溅射。双靶磁控溅射(ronSputtering)的方法的最早专利是Kirchhoff等1986年申请的工业上,德国Leybold的孪生靶(TwinMag®)系统是其典型代表,已于1994年正式投入生产。凸艰酚蕊摈英螟祖惟归肝仍衫比烩歹块封锦维桶厌娇域失喝云脊***叼貌评磁控溅射镀膜技术1磁控溅射镀膜技术12、发展概况(4)1986年Window发明了非平衡溅射(Closed-ronspattering,CFUMS),有广阔的应用前景卞林娩摩誓叹猎殴月趴狼吴咬咎惮包磊着绦完窒诣杏獭辨辙鹏萝足倘茎赵磁控溅射镀膜技术1磁控溅射镀膜技术13、国内发展情况1982年以后,范毓殿、王怡德及李云奇等先后发表了有关平面磁控溅射靶设计方面的论文报告1985年后,各类小型平面磁控溅射镀膜机问世1995-1996年豪威公司采用国外先进技术和材料研制出大型ITO磁控溅射镀膜系统(含射频溅射制备二氧化硅膜的装置和功能)小茹位榴浆饱树附帘蔚拎座瞒敝霄烧认依滩磁汕酬竟蠕祁澜晾迎败猴贵橙磁控溅射镀膜技术1磁控溅射镀膜技术1