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材料制备技术.ppt

文档分类：汽车/机械/制造 | 页数：约16页举报非法文档有奖

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材料制备技术脉冲激光沉淀系统实体图PLD定义及特点※PLD基本原理及示意图PLD制备的物理过程PLD制备的具体步骤※PLD与其他物理沉积法的区别PLD优缺点脉冲激光沉积法(PLD)薄膜样品在光学显微镜下放大1000倍的表面形貌示意图BiFeO3薄膜样品的AFM具有较高质量的表面平滑度,颗粒的粒径分布比较均匀。Thankyou!!!Foryourlistening!!!PLD是将脉冲激光器所产生的高功率脉冲激光束聚焦作用于靶体材料表面,使靶体材料表面产生高温及熔蚀,并进一步产生高温高压等离子体(T≥104K),这种等离子体定向局域膨胀发射并在衬底上沉积而形成薄膜。沉积过程中的工艺参数可调,可以精确控制沉积薄膜的化学计量,得到的薄膜具有良好的平整度、表面光滑度,适用于超薄薄膜和多层薄膜的制备。属于物理气相沉积法,是一种先进的薄膜制备技术。PLD定义及特点返回脉冲激光沉积装置示意图脉冲激光沉积法基本原理返回PLD制备薄膜的物理过程(1)激光汽化靶材:表面熔蚀及等离子体产生(2)等离子体的定向局域等温绝热膨胀发射,形成羽辉(3)薄膜沉积:在衬底表面凝结成膜返回

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