ito与触控面板.ppt

显示技术进展ProgressinDisplayTechnology主讲:刘琳西安邮电学院光电信息工程教研室Email:******@~2010学年第一学期*显示技术进展前言*在平面面板显示器的发展过程中,铟锡氧化物透明导电薄膜是显示器面板制程中非常重要的技术项目,其薄膜的物理特性将深深地影响到最终产品显示器的画质及其价位。*铟锡氧化物透明导电薄膜的主要功能是在于其极佳的电极材料而应用于平面面板显示器,具有发热、热反射、抗电磁波和静电等不同的用途。*早期液晶显示组件的发展过程中,主要的电极材料是金(Au)和氧化锡(SnO2),尔后开发出目前常用的氧化铟和氧化锡的混合物(In2O3-SnO2),这是因为铟锡氧化物薄膜具有很高的透明度和导电特性。*显示技术进展1前言*液晶显示组件的发展,也就是由被动式矩阵驱动向列型(TN)/超扭向型(STN)液晶显示器,推向主动式矩阵驱动薄膜晶体管液晶显示器,并更加发展至所谓的新世代的显示器,-有机电发光显示器或有机发光二极管(OLED),无论如何发展而铟锡氧化物薄膜的重要性毋庸置疑。*使用于液晶显示器的ITO膜,不仅作为透明的像素电极功能而且也作为简单矩阵型STN-LCD的扫描电极和信号电极,以及主动型TFT-LCD的共通电极和阵列电路中配线重要角色,随着彩色化、高分辨率和人机界面化(触控面板),促使相关液晶显示器和其它平面显示器的成长快速。*显示技术进展*一般平面显示器的透明电极用的透明导电膜,大多是以铟锡氧化物(ITO)为靶材,而使用溅镀法制作而成2铟锡氧化物透明导电薄膜的材料及其特性**平面显示器的种类,表示方式和表示画质的不同,而相对地对其显示性能的要求也就有所差异。目前的透明导电材料种类,有金属薄膜、金属氧化物、非金属氧化物以及导电性颗粒分散铁电材料,其中以金属氧化物薄膜为主。薄膜的形式则是单层膜、二层膜、多层膜或复层膜、无掺杂型、掺杂型和多元素型。*透明导电膜的材料,以氧化锡中掺杂氧化铟的薄膜,氧化锡、氧化锌以及氧化铟/氧化锌(IZO)也是下一个新研发的透明导电薄膜材料*显示技术进展*ITO透明导电膜可区分为ITO膜和IT膜。*铟锡薄膜的靶材是铟锡合金材料而非氧化物,利用溅镀法及室温制程制作半透明非晶质结构膜,在电极图案加工和配向膜处理工程,使其稳定化和透明化。*一般ITO透明导电膜的质量特性需求,有低表面电阻、高透光率、低比电阻值、耐热性、耐酸碱性、图案加工性、电化学稳定性、膜表面形状、低成膜温度、膜附着机械强度、膜厚及其硬度、膜的外观、大面积低成本等*低温成膜的In2O3-ZnO(IZO)系的透明导电膜,顺应技术市场的需要而开发使用。**ITO透明导电膜可区分为ITO膜和IT膜,就铟锡氧化物薄膜而言,通常是将含有3~5%重量百分比的In2O3SnO2烧结体,利用电子束加热并使其在适当的氧分压下蒸发,而于300℃预热的基板上蒸着薄膜,因其膜的颜色是白色而又称为白膜。*就铟锡薄膜而言,铟锡薄膜的靶材是铟锡合金材料而非氧化物,利用溅镀法及室温制程制作半透明非晶质结构膜,在电极图案加工和配向膜处理等工程中,使其稳定化和透明化,因其膜颜色是黑色而又称为黑膜。**一般ITO透明导电膜的质量性需求,有低表面电阻、高的透光率、低比电阻值、耐热性、耐酸碱性、图案加工性、电化学稳定性、膜表面形状、低成膜温度、模附着机械强度、膜厚及其硬度、膜的外观、大面积和低成本。*低温成膜In2O3-ZnO(IZO)系的透明导电膜,由于因应新技术市场的需要而被开发使用。IZO透明导电膜为10wt%氧化锌(ZnO)掺杂于氧化铟而形成,其结晶形态为完全非晶质的而与ITO结晶质是不相同的。*显示技术进展**显示技术进展*一般氧化铟氧化物膜或铟锡合金膜的制作方法有::物理式气相蒸着法,可分为真空蒸镀法加热型和电子束加热型、离子被覆膜法,以及溅镀法直流磁控型和射频磁控型。:化学式的气相蒸着法则有电浆型、浸镀型和凝胶型3铟锡氧化物透明导电薄膜的制作流程技术