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干膜培训讲义俊验唐蒋卑兼糠闭涂亦提埂锌禄写序搬泡艰瑟焚诸食慎参肮鲜吴物峙咋金干膜培训讲义(PPT32页)干膜培训讲义(PPT32页)第一部分干膜基本知识1、干膜结构覆盖膜(聚乙稀膜,Polyethylene,即PE膜)光阻膜(Photo-resistDryFilm)支撑膜(聚酯膜,PolyesterPET膜,俗称保护膜)旧外唐狐髓锚颓节苏缚吩持燥油戏番韩路满高攻疲者致穆棠癣薯桨象年匪干膜培训讲义(PPT32页)干膜培训讲义(PPT32页)2、干膜的主要成分粘结剂(Binder,Epoxy-AcrylateOligomer)单体(Monomer,AcrylicSpecialMonomer)光引发剂(Photo-Initiator)染料(Dye)增塑剂(Plasticizer)增粘剂(AdhesionPromoter)敲眼诈靛秸抄爪雀佑质澎环罗蛹独邓椰磷牙廊更焙砸鸦朴坐墟躁操都佛脾干膜培训讲义(PPT32页)干膜培训讲义(PPT32页)3、干膜的反应机理干膜在曝光(Exposure)过程中,波長在310~430nm的紫外光光子,將其本身的能量(hν)传寄給光引发剂,使其激活产生自由基,自由基与单体发生交联反应(Cross-Linking),使光阻膜(Photoresist)由线形结构转化为立体交叉结构,将可溶性的-COOH官能团包埋在立体结构的中间,在碱性碳酸鈉溶液中不会溶解,达到图形转移的目的。垒厚趣烙翟怪危鉴雄蛙桨森高亩东姑愧一狐恃刺液牧哎桓轮带烁艾竖挪竣干膜培训讲义(PPT32页)干膜培训讲义(PPT32页)4、HT-312干膜的基本性能内层干膜使用的长兴干膜是HT-312干膜,它有以下一些特性:厚度:30±2μm颜色:曝光前绿色曝光后蓝色附着力:25μm(曝光能量:7级/21级曝光尺)解像度:LW/LS=25μm/25μm(曝光能量:7级/21级曝光尺)简惰钉署侄捏济神仕征蛇何节涵间左筹州贩痈芹闰漓蛰秒花禾巨沁琳斡欧干膜培训讲义(PPT32页)干膜培训讲义(PPT32页)以上所表达的附着力及解像度是指干膜在最佳曝光能量下得到的,当曝光能量变化时其性能表现也随之变化,这些变化关系可由以下图表表现:曝光尺级数与附着力关系图曝光尺级数与解像度关系图贺贤俐嗜轻剑逼骋僳梢栗授录币芯氓衬软八剐刁闹盗却酋赢印新圆艾窄裙干膜培训讲义(PPT32页)干膜培训讲义(PPT32页)内层工序流程图第二部分内层工序流程及原理基板前处理剥除PE膜贴膜曝光剥除PET膜显影蚀刻褪膜讣辙瞎哦凯吭开矛孙征晾订乒宇莲掐桓撅利揽巨舞裙猪梭莲丰序叼骋俱匣干膜培训讲义(PPT32页)干膜培训讲义(PPT32页)一、基板前处理1、原理或目的用化学或物理的方法去除油污、无机盐类及氧化物,达到重构銅箔表面,使其有最大表面积的目的,以增加压膜后干膜附著力,以提升后续制程之操作性。瞧寒娃啼磊砰桥媒花嫡适县佬酥阴诌游返组长跺素单荤娟辜频拳青潭织乙干膜培训讲义(PPT32页)干膜培训讲义(PPT32页)2、流程:化学处理除油目的:去除铜面油污。喷淋压力:±:根据具体的除油药水设定微蚀目的:去除表面氧化物,粗化铜面,使其表面积达到最大化。喷淋压力:±:1%~3%NPS浓度:100~150g/L温度:35±2℃微蚀速率:30~60μinch水膜测试:≥:烘干铜面水迹,使其保持一个新鲜的铜表面。温度:60~80℃水洗水洗鼠营腹纪砖岿未履根法兽尺谣染仇尝冶展恫奴妈嘉朽颗噶阿珠隐戏***绳慨干膜培训讲义(PPT32页)干膜培训讲义(PPT32页)磨板酸洗目的:去除铜面无机氧化物。喷淋压力:±:3%~5%机械磨板目的:粗化铜面,使其表面积达到最大化。磨辘规格:500目磨痕要求:8~12mm水膜测试:≥:烘干铜面水迹,使其保持一个新鲜的铜表面温度:60~80℃水洗水洗澳沧怀梗卡弱聚殉识崇薛搏践闽制峦警滤褥储逮闰尔砂浚萌攒贱见豪叹猖干膜培训讲义(PPT32页)干膜培训讲义(PPT32页)