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集成电路的发展 论文.doc


文档分类:通信/电子 | 页数:约5页 举报非法文档有奖
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论文题目:集成电路的发展学院:班级:姓名:学号:集成电路的发展摘要集成电路不仅在工、民用电子设备如收录机、电视机、计算机等方面得到广泛的应用,同时在军事、通讯、遥控等方面也得到广泛的应用。用集成电路来装配电子设备,其装配密度比晶体管可提高几十倍至几千倍,设备的稳定工作时间也可大大提高。在当今这信息化的社会中,集成电路已成为各行各业实现信息化、智能化的基础。无论是在军事还是民用上,它已起着不可替代的作用。本文试论由集成电路的发展史到未来发展趋势。关键词:集成电路发展史未来发展趋势晶体管MOS集成电路概述所谓集成电路(IC),就是在一块极小的硅单晶片上,利用半导体工艺制作上许多晶体二极管、三极管及电阻、电容等元件,并连接成完成特定电子技术功能的电子电路。从外观上看,它已成为一个不可分割的完整器件,集成电路在体积、重量、耗电、寿命、可靠性及电性能方面远远优于晶体管元件组成的电路,目前为止已广泛应用于电子设备、仪器仪表及电视机、录像机等电子设备中。集成电路发展史1)发现和研究半导体效应1833-第一次记录了半导体效应1874-发现半导体点接触整流效应1901-场效应半导体器件概念申请专利1931-出版《半导体电子理论》1940-p-n结的发现1947年12月16日-“触点式”晶体管的发明1948-结型晶体管的诞生1952-贝尔实验室授权晶体管技术2)“集成电路”的发明1958-杰克·基尔比(JackKilby)展示了“固态电路”1959-平面工艺的发明导致了单片集成电路的发明3)金属氧化物半导体(MOS)和互补型金属氧化物半导体(CMOS)的发明1960-制成首个金属氧化半导体(MOS)绝缘栅场效应晶体管1963-发明互补型MOS电路结构4)集成电路工业进入发展期1963-开发标准逻辑集成电路系列1964-混合微型电路达产量高峰1964-第一块商用MOS集成电路诞生1964-第一个广泛应用的模拟集成电路诞生1965-适合于系统集成的封装设计1965-只读型存储是第一个专用存储IC存储1966-为高速存储开发的半导体RSMs1968-集成了数据转换功能的电流源集成电路1968-为集成电路开发的硅栅技术1969-肖特基势垒二极管让TTL存储器的速度加倍1970-MOS动态随机存取存储器(DRAM)与磁芯存储器价格相近1971-微处理器将CPU功能浓缩进单个芯片1974-数字显示式手表是第一块片上系统(SoC)集成电路1978-(可程序化行列逻辑)用户可编程逻辑器件诞生1979-,以及集成技术应用领域的不断扩大,集成电路的发展趋势将呈现小型化、系统化和关联性的态势。1)器件特征尺寸不断缩小自1965年以来,集成电路持续地按摩尔定律增长,即集成电路中晶体管的数目每18个月增加一倍。每2~3年制造技术更新一代,这是基于栅长不断缩小的结果,器件栅长的缩小又基本上依照等比例缩小的原则,同时促进了其它工艺参数的提高。在未来CMOS器件的栅长会越来越小。2)系统集成芯片(SoC)随着集成电路技术的持续发展,不同类型的集成电路相互镶嵌,已形成了各种嵌入式系统(EmbeddedSystem)和片上系统(SystemonChip即oC)技术。也就是说,在实现从集成

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  • 时间2020-09-29