CdS薄膜的可见和近红外光谱性能研究.pdf

第35卷第5期 2013年5月红外技术 InfraredTechnology May 2013 <材料与器件> CdS薄膜的可见和近红外光谱性能研究张传军,一,丛家铭,邬云骅,曹鸿,一,王善力,褚君浩, (,上海200083: ,上海201201;,西安710032) 摘要:在康宁7059玻璃衬底上采用磁控溅射、化学水浴和近空间升华法制备CdS薄膜,在FTO、ITO、 AZO衬底上采用磁控溅射法制备CdS薄膜。分别对两组CdS薄膜的形貌、结构和光学性能进行了研究,结果表明:采用不同工艺和衬底条件制备的CdS薄膜具有不同的形貌和结构,并表现出不同的光学性能。对于不同的制备技术,化学水浴法制备的CdS薄膜在5204820nm范围的光谱平均透过率最高,,磁控溅射法制备的CdS薄膜在820"~1200nm和5201200nm范围的光谱平均透过率最高。对于不同的衬底条件,在FTO衬底上磁控溅射制备的CdS薄膜在820~1200nm 和520~1200nm范围的光谱平均透过率最高。关键词:CdS薄膜;光谱透过率;可见和近红外光谱中图分类号:TN213 文献标识码:A 文章编号:1001-8891(2013)05—0259—06 Visible-nearInfraredSpectralTransmittancePropertiesforCdSFilms ZHANGChuan-jun,一,,、 Yun—hua,CAOHong,,CHUJun—hao' (,ShanghaiInstituteofTechnicalPhysicsoftheChineseAcademyofScience, Shanghai200083。China;,Shanghai201201,China: ,Xi'anTechnologicalUniversity,Xi'an710032,China) Abstract:ronsputtering,chemicalbath depositionandclosespacesublimation,ronsputteringonFTO,ITO ,structureandopticalpropertiesofCdSfilmsareinvestigatedintwo preparationprocessesandsubstratesconditions,andaffecttheopticalpropertiesofthecorrespondingCdS