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第五讲-ic工艺流程ppt课件.ppt

文档分类：高等教育 | 页数：约43页举报非法文档有奖

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文档列表 文档介绍

简单NMOS和CMOS器件平面工艺
1
复****工艺流程图
晶片准备
平面工艺
封装测试
2
硅片的类型标志
P(100)
P(111)
N(111)
N(100)
3
微电子制造工艺的主要内容
衬底制备—单晶生长；晶片的切、磨、抛；
薄膜技术—氧化、外延、蒸发；
掺杂技术—扩散、离子注入；
图形加工—制版、光刻（曝光、腐蚀）
热处理——退火、烧结、去除光刻胶
4
简单NMOS和CMOS器件平面工艺
5
Simple NMOS Technology
N channel
4-mask
1 metal layer
6
单晶硅
掩膜版
7
8
Note!
9
10

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