磁控溅射金属薄膜的制备.doc

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磁控溅射金属薄膜的制备
磁控溅射薄膜金属的制备
黎明
烟台大学环境与材料工程学院山东烟台111
E-mail:******@
摘要:金属与金属氧化物在气敏、光催化与太阳能电池等方面有着极为重要的应用，通过磁控溅射法制备的金属氧化物薄膜，具有纯度高、致密性好、可控性强、与基底附着性好等优点，因此磁控溅射技术被广泛应用于工业化生产制备大面积、高质量的薄膜。我们通过磁控溅射法制备了氧化铜纳米线阵列薄膜，并研究了其气敏性质；除此之外，我们还通过磁控溅射法制备了TiO2/WO3复合薄膜，研究了两者之间的电荷传输性质
关键词：磁控溅射;气敏性质;光电性质
Magnetronsputteringmetalfilmpreparation
LiMing
EnvironmentalandMaterialsEngineering,YantaiUniversityShandongYantai111
E-mail:******@
Abstract:GAasMetalandmetaloxidehaveimportantapplicationsingas-sensing,photocatalystandphotovoltaics,,suchashighpurity,goodcompactness,,CuOnanowires(NWs)-,WO3/TiO2nanocompositefilmsweresynthesizedbymagnetronsputteringandtheirdynamicchargetransportpropertieswereinvestigatedbythetransientphotovoltagetechnique.
KeyWords:GmagnetronSputtering,Photo-electricProperties,Gas-sensingProperties
1绪论
磁控溅射由于其显着的优点应用日趋广泛，成为工业镀膜生产中最主要的技术之一，相应的溅射技术与也取得了进一步的发展!非平衡磁控溅射改善了沉积室内等离子体的分布，提高了膜层质量；中频和脉冲磁控溅射可有效避免反应溅射时的迟滞现象，消除靶中毒和打弧问题，提高制备化合物薄膜的稳定性和沉积速率；改进的磁控溅射靶的设计可获得较高的靶材利用率；高速溅射和自溅射为溅射镀膜技术开辟了新的应用领域。
随着科技