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使用去离子水系统的标准操作流程资料下载.doc


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使用去离子水系统的标准操作流程资料下载.doc使用去离子水系统的标准操作流程资料下

去离子水系统应用范围
1、 去离子水系统有电子材料加工、单晶硅半导体、半导体
材料、液晶显示器、计算机硬盘、印刷电路板、集成电路;
2、 LCD、EL、PDP、TFT、玻壳和显像管;
3、 超纯材料和超纯化学剂导纤维和光盘;
4、 汽车、家电表面电泳漆清洗用水及其它高科技精密产品;
去离子水设备技术参数
机器型号:N 1-100T-DI
制水量:1-100 T/H
主要管径:DN 32
工作压力:
产水电阻率:、、、、
0. 5M Q . cm
技术资料来源于莱特莱德哈尔滨去离子水系统工程公司
进水水源:城市自来水
进水水温:5-3 5 °C
机器电源:380V/50HZ
进水 TDS : <300ppm
去离子水系统产品介绍
反渗透装置,配套进口混合离子交换设备或EDI设备和紫外 线灭菌器、精密过滤器,出水水质符合电子部超纯水水质标准 (、、、、0. 五级), 取代蒸惚水,满足大专院校、科研机构和工业企业的实验、科研 和生产对高纯度纯水的要求。
去离子水系统广泛应用于电镀工艺去离子水、电池生产工艺 用纯水、汽车、家用电器、建材产品表面涂装、清洗纯水、镀膜 玻璃用纯水、纺织印染工艺所需的除硬除盐水系统。超纯水制造 技术的发展极大地推动了半导体和电子工业的技术发展。
去离子水设备工艺说明
去离子水的工艺大致分成以下3种:
1、离子交换树脂制备去离子水的传统水处理方式,其基本
工艺流程为:
原水f多介质过滤器f活性炭过滤器f精密过滤器f阳床 f阴床f混床f后置保安过滤器f用水点(特点:污染比较大, 自动化程度低,初期投

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  • 时间2021-07-28