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文档分类:汽车/机械/制造

材料制备技术.ppt


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材料制备技术.ppt
文档介绍:
材料制备技术
第一页,共16页
脉冲激光沉淀系统实体图
第二页,共16页
第三页,共16页
PLD定义及特点
※PLD基本原理及示意图
PLD制备的物理过程
PLD制备的具体步骤
※PLD与其他物理沉积法的区别
PLD优缺点
脉冲激光沉积法(PLD)
第四页,共16页
薄膜样品在光学显微镜下放大 1000 倍的表面形貌示意图
第五页,共16页
BiFeO3薄膜样品的AFM
具有较高质量的表面平滑度,颗粒的粒径分布比较均匀。
第六页,共16页
Thank you!!!
For your listening!!!
第七页,共16页
PLD是将脉冲激光器所产生的高功率脉冲激光束聚焦作用于靶体材料表面,使靶体材料表面产生高温及熔蚀,并进一步产生高温高压等离子体(T≥104K),这种等离子体定向局域膨胀发射并在衬底上沉积而形成薄膜。
沉积过程中的工艺参数可调,可以精确控制沉积薄膜的化学计量,得到的薄膜具有良好的平整度、表面光滑度,适用于超薄薄膜和多层薄膜的制备。
属于物理气相沉积法,是一种先进的薄膜制备技术。
PLD定义及特点
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第八页,共16页
脉冲激光沉积装置示意图
脉冲激光沉积法基本原理
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第九页,共16页
PLD制备薄膜的物理过程
(1)激光汽化靶材:表面熔蚀及等离子体产生
(2) 等离子体的定向局域等温绝热膨胀发射,形成羽辉
(3)薄膜沉积:在衬底表面凝结成膜
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第十页,共16页
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  • 时间2021-10-07