LCD工艺流程简要介绍.pptx

LCD制造(zhìzào)部
2007年02月08日
LCD工艺流程(ɡōnɡ yì liú chénɡ)
第一页，共24页。
曝光(bào guāng)
前清洗(qīngxǐ)及涂光刻胶
显影(xiǎn yǐng)/酸刻
TOP / PI
摩擦
装配
CSTN/STN液晶显示屏生产线
第二页，共24页。
图形(túxíng)段
来料玻璃 清洗 涂感光胶 前烘 曝光

显影 显影检查 后烘 酸刻 图形检查
清洗：机械清洗如刷洗、冲洗，超声波清洗，臭氧洗、UV清洗，溶剂洗等
评价手段：接触角、强光检查表面、显微镜检查
涂感光胶：正性胶、负性胶，我们使用正性胶。
评价手段：膜厚度、显影效果、去除效果
曝光：由光路产生的平行紫外线曝光，接触式、恒温、自动对位
评价手段：光强均匀性、对位精度、图形精度
酸刻：盐酸、***(xiāo suān)混合物，温度对酸刻效果影响大，温度过低生产效率降低快，过高同光刻胶有反应，生产物质难以脱膜除去。也可以使用4价铁离子作为酸刻剂。
评价手段：线条宽度、微短路、侧蚀
主要不良：断路（ITO线断开）/短路（不该相连的两条ITO线连在一起）
第三页，共24页。
浮胶
微断
微断
短路(duǎnlù)
短路(duǎnlù)
短路(duǎnlù)
第四页，共24页。
原材料玻璃(bō lí)极板
ITO层
Substrate
工艺环境：工艺环境：净房洁净度1000级，温度：23±2℃，湿度：55±15%RH。工艺条件：KOH：纯水=3：100（3～4%KOH溶液）；温度：40±2℃， IR炉板实际温度100±10℃。每月测一次。UV照度：≥ .每月测一次.工艺重点管控：清洗液及DIW的温度、流量(liúliàng)，玻璃传送的节拍，毛轮的压入量，气刀的压力、角度，DIW的电阻率（离子的含量）不小于15兆欧，过滤芯的规格及定期更换等。
第五页，共24页。
工艺环境：净房洁净度100级，温度：23±2℃，湿度(shīdù)：55±5％RH，黄灯区。预烘温度：玻璃表面实际温度100 ±5℃，100 ~120秒。光积量为100~150mj/cm2 。工艺重点管控：光刻胶粘度，涂胶轮转数、压入量，光刻胶前烘温度及时间，洁净度等。光强强度及其分布，曝光机内温度，环境的温湿度(shīdù)及洁净度，CF玻璃的流向及曝光精度（±2u）等
第六页，共24页。
工艺环境：净房洁净度1000级，温度：23±2℃，湿度：55±10％RH。工艺条件：显影剂溶液的浓度：～%的KOH, 温度：23±2℃，坚膜炉温度：玻璃表面实际(shíjì)温度130±5℃，100 ~120秒。 工艺重点管控：显影液浓度及温度、喷淋的流量，玻璃节拍，过滤芯规格及定期更换，光刻胶后烘温度及时间，气刀压力等。
第七页，共24页。
工艺环境：净房洁净度1000级，温度：23±2℃，湿度：55±10％RH。工艺条件：酸刻液配比：纯水:HCl:HNO3＝10:20:1（体积比）；HCl浓度36～38％，HNO3浓度65～68％，酸刻液当量浓度：～，脱膜液：5±1％KOH溶液；温度：40±1℃ 工艺重点管控：酸刻液/脱膜浓度及温度、喷淋的流量，玻璃节拍，过滤芯规格及定期更换(gēnhuàn)，气刀压力等。
第八页，共24页。
定向(dìnɡ xiànɡ)段
TOP前清洗 TOP印刷 TOP主固化 PI前清洗
PI印刷 PI主固化 PI预固化 摩擦 清洗

清洗：机械清洗如刷洗、冲洗，超声波清洗，臭氧洗、UV清洗，溶剂洗（KOH溶液等）等，评价手段：接触角（小于7度）或蒸汽检查。
PI印刷：电压主要影响因素，定向效果（显示均匀(jūnyún)性等）的关键
评价手段：膜厚、尺寸位置、均匀(jūnyún)性
固化：主要有炉子固化和热板固化两种
评价手段：温度均匀(jūnyún)性、温度曲线
摩擦：用绒毛布在玻璃表面打磨出均匀(jūnyún)定向沟槽
评价手段：蒸汽检查摩擦效果
主要不良：PI斜纹/PI白条/PI黑条/显示不均等
第九