屏蔽方舱电磁兼容制造关键技术研究.pdf

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摘要
当今,作为集成电子系统(通信系统、控制系统等)的机动式承载平台,电
磁屏蔽方舱已获得广泛应用,其在设计、生产制造及使用过程中的电磁屏蔽性能
是保证工作稳定的重要因素,尤其是随着电子装备的工作频带越来越宽、互连系
统的集成度越来越高以及空间电磁环境的日益复杂化,其电磁兼容制造的技术水
平正受到越来越高的重视。
本文以电磁屏蔽方舱的电磁兼容制造为研究中心,从电磁泄漏要素控制、电
化学腐蚀效应及整舱屏蔽效能评估方法三个方面进行了相关关键技术的研究。首
先,分析方舱电磁泄漏的各结构要素和电路要素,建立总体屏蔽效能模型体系,
给出典型要素的控制方法;其次,通过分析电化学腐蚀的机理及其腐蚀速度的理
论研究,给出方舱的腐蚀速度预估模型;最后,提出整舱屏蔽效能测试与评价方
法方案,通过结合天线原理、电磁场原理、孔耦合理论,推导出理论结果,并通
过测试手段验证该方案的合理性。文中给出的分析模型和测试数据可为电磁屏蔽
方舱的电磁兼容制造起到一定的理论指导意义。

关键词:方舱电磁兼容制造电磁泄漏屏蔽效能电化学腐蚀
Abstract
Nowadays, as the self-propelled platform of integrated electron systems, including
communication system, control system and so on, ic Shielding Shelters
are widely shielding performance of which during the period of design,
production and use, es an important factor to provide the stability. Especially with
the wider frequency band of electron equipments, the higher integration level of
coadjacent system, and the plicated degree of ic environment,
the level of patible manufacturer is more and more recognized.
Taking patible manufacturer of the ic shielding
shelter as the object of study, this paper analyzes the critical technique in three ways,
including the control of ic leakage, the effect of electrochemical corrosion
and the evaluation of the shielding effectiveness in installed state. Firstly, the article
classifyies structural factor and circuit factor, and establishes the model of the holistic
s