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卧式辐射加热器温度控制系统的制作方法.docx


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卧式辐射加热器温度控制系统的制作方法
专利名称:卧式辐射加热器温度控制系统的制作方法
技术领域:
:本实用新型涉及一种温度控制系统,尤其涉及一种卧式辐射加热器温度控制系统。
技术背景:冷氢化工艺是国内目前多晶硅行业的趋势,这是由于冷及三个以上加热区,每个加热区的功率根据介质的流向从高到低布置,确保金属螺旋管每个部位的温度均匀,金属螺旋管的最高温度仅620°C就能满足出口温度600°C的要求,降低了使用温度,提高了许用应力,减少了壁厚,降低了投资成本;通过温度传感器TEI把金属螺旋管表面温度传输给温度控制器TCI,经温度控制器TCI中设有的PID运算后,将信号输送带功率调整器SCR,形成一个闭环系统;当温度传感器TEI出现故障时,金属螺旋管表面温度通过温度传感器TEII传输给超温控制器0TC,超温控制器OTC与功率调整器SCR相连,关闭断路器CB ;每个加热区有两个温控点,温控点的选取是预先根据有限元分析的位置,其中一个作为主控制点,另一个作为超温报警点,不管系统出现断流、小流量或正常公开时,金属螺旋管的温度始终保持在620°C左右,不会有任何超温现象,减少超温的发生就大大提高了系统的可靠性,延长了系统的使用寿命。
:图1为本实用新型的结构示意图;图中标记为:1、辐射加热炉,2、电热丝,3、金属螺旋管,4、电源接线盒,5、温度传感器TEI,6、温度传感器TEII,7、温度控制器TCI,8、超温控制器OTCI,9、功率调整器SCRI,10、交流接触器MCI,11、断路器CBI,12、温度传感器TEIII,13、温度传感器TEIIII,14、温度控制器TCII,15、超温控制器0TCII,16、功率调整器SCRII,17、交流接触器MCII,18、断路器CBII,19、温度传感器TEIIIII,20、温度传感器TEIIIIII,21、温度控制器TCIII,22、超温控制器OTCI 11,23,功率调整器SCRI11,24、交流接触器MCIII,25、断路器CBIII,PV:过程值,SP:设定值。
具体实施方式
:如图所示,卧式辐射加热器温度控制系统,其特征在于:辐射加热炉内安装有一根金属螺旋管,辐射加热炉内壁上下对应位置设有加热丝,辐射加热炉均分为三个及三个以上加热区,在各加热区外壁的底部均设有电源接线盒,三个电源接线盒上分别安装有功率调整器SCRI9、SCRII16、SCRIII23 ;第一个加热区中,在金属螺旋管头部和尾部表面分别安装有温度传感器TEI5、温度传感器TEII6,温度传感器TEI5通过温度控制器TCI7与功率调整器SCRI9连接,TEII6通过超温控制器0TCI8与交流接触器MCIIO连接,断路器CBIll通过交流接触器MCI 10与功率调整器SCRI9连接;第二个加热区中,在金属螺旋管头部和尾部表面分别安装有温度传感器TEII112、温度传感器TEIIII13,温度传感器TEII112通过温度控制器TCII14与功率调整器SCRII16连接,TEIIII13通过超温控制器0TCII15与交流接触器MCII17连接,断路器CBII18通过交流接触器MCII17与功率调整器SCRII16连接;第三个加热区中,在金属螺旋管头部和尾部表面分别安装有温度传感器TEIIII119和温度传感器TEIIII1120,温度传感器TEIIII

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