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除草的嘧啶的制作方法.docx


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】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。除草的嘧啶的制作方法专利名称:除草的嘧啶的制作方法技术领域:本发明涉及某些嘧啶、它们的N-氧化物、农业上适合的盐和组合物以及它们用于防治不需要的植物的方法。背景技术:不需要的植物的防治在实现作物高产的过程中是极为重要的。其中,尤其在上述有用作物如稻、大豆、糖用甜菜、玉米、马铃薯、小麦、大麦、番茄和种植园作物中实现选择性地防治杂草的生长是非常需要的。杂草在上述有用作物中不受控制的生长会造成严重的减产,从而导致消费者成本增加。在非作物区域防治不需要的植物同样也是重要的。用于上述目的许多产品是可商购的,但是仍然需要更有效、低廉、低毒、对环境安全或具有不同作用方式的新化合物。国际专利申请公开文本WO92/05159-A公开了用作植物保护剂,特别是杀真菌剂的嘧啶。欧洲专利申请公开文本EP-136976-A2公开了用作植物生长调节剂的嘧啶。美国专利5,324,710公开了嘧啶的磺化杂环羧酰***衍生物,用作除草剂和生长调节剂。发明概述本发明涉及一种式I化合物,包括所有的几何异构体和立体异构体,它们的N-氧化物或农业上适合的盐,含有它们的农用组合物以及它们用作除草剂的用途。其中R1是任选地被1-5个R5取代的环丙基,任选地被1-5个R6取代的异丙基,或任选地被1-3个R7取代的苯基;R2是((O)iC(R15)(R16))kR;R是CO2H或CO2H的除草有效的衍生物;R3是卤素、***基、硝基、OR20、SR21或N(R22)R23;R4是-N(R24)R25或-NO2;每个R5和R6独立地是卤素、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C1-C3烷氧基、C1-C2卤代烷氧基、C1-C3烷硫基或C1-C2卤代烷硫基;每个R7独立地是卤素、***基、硝基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C1-C4羟基烷基、C2-C4烷氧基烷基、C2-C4卤代烷氧基烷基、C2-C4链烯基、C2-C4卤代链烯基、C3-C4炔基、C3-C4卤代炔基、羟基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C2-C4链烯基氧基、C2-C4卤代链烯基氧基、C3-C4炔氧基、C3-C4卤代炔氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4卤代烷硫基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C2-C4链烯基硫基、C2-C4卤代链烯基硫基、C2-C4链烯基亚磺酰基、C2-C4卤代链烯基亚磺酰基、C2-C4链烯基磺酰基、C2-C4卤代链烯基磺酰基、C3-C4炔基硫基、C3-C4卤代炔基硫基、C3-C4炔基亚磺酰基、C3-C4卤代炔基亚磺酰基、C3-C4炔基磺酰基、C3-C4卤代炔基磺酰基、C1-C4烷基氨基、C2-C8二烷基氨基、C3-C6环烷基氨基、C4-C6(烷基)环烷基氨基、C2-C6烷基羰基、C2-C6烷氧基羰基、C2-C6烷基氨基羰基、C3-C8二烷基氨基羰基、C3-C6三烷基甲硅烷基、苯基、苯氧基和5-或6-元杂芳环,每个苯基、苯氧基和5-或6-元杂芳环任选地被1-3个独立地选自R45的取代基所取代;或两个邻近的R7合在一起为-OCH2O-、-CH2CH2O-、-OCH(CH3)O-、-OC(CH3)2O-、-OCF2O-、-CF2CF2O-、-OCF2CF2O-或-CH=CH-CH=CH-;R15是H、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、羟基、C1-C4烷氧基或C2-C4烷基羰基氧基;R16是H、卤素、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基;或R15和R16合在一起为氧原子以与它们相连的碳原子形成羰基部分;R20是H、C1-C4烷基或C1-C3卤代烷基;R21是H、C1-C4烷基或C1-C3卤代烷基;R22和R23独立地是H或C1-C4烷基;R24是H、任选地被1-2个R30取代的C1-C4烷基、任选地被1-2个R31取代的C2-C4链烯基、或任选地被1-2个R32取代的C2-C4炔基;或R24是C(=O)R33、硝基、OR34、S(O)2R35、N(R36)R37或N=C(R62)R63;R25是H、任选地被1-2个R30取代的C1-C4烷基或C(=O)R33;或R24和R25合在一起为选自-(CH2)4-、-(CH2)5-、-CH2CH=CH-CH2-和-(CH2)2O(CH2)2-的基团,每个基团任选地被1-2个R38所取代;或R24和R25合在一起为=C(R39)N(R40)R41或=C(R42)OR43;每个R30、R31和R32独立地是卤素、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、氨基、C1-C3烷基氨基、C2-C4二烷基氨基或C2-C4烷氧基羰基;每个R33独立地是H、C1-C14烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C4烷氧基、苯基、苯氧基或苄氧基;R34是H、C1-C4烷基、C1-C3卤代烷基或CHR66C(O)OR67;R35是C1-C4烷基或C1-C3卤代烷基;R36是H、C1-C4烷基或C(=O)R64;R37是H或C1-C4烷基;每个R38独立地是卤素、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、氨基、C1-C3烷基氨基、C2-C4二烷基氨基或C2-C4烷氧基羰基;R39是H或C1-C4烷基;R40和R41独立地是H或C1-C4烷基;或R40和R41合在一起为-(CH2)4-、-(CH2)5-、-CH2CH=CH-CH2-或-(CH2)2O(CH2)2-;R42是H或C1-C4烷基;R43是C1-C4烷基;每个R45独立地是卤素、***基、硝基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C2-C4链烯基、C2-C4卤代链烯基、C3-C4炔基、C3-C4卤代炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4卤代烷硫基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C4烷基氨基、C2-C8二烷基氨基、C3-C6环烷基氨基、C4-C6(烷基)环烷基氨基、C2-C4烷基羰基、C2-C6烷氧基羰基、C2-C6烷基氨基羰基、C3-C8二烷基氨基羰基或C3-C6三烷基甲硅烷基;R62是H、C1-C4烷基或任选地被1-3个R65取代的苯基;R63是H或C1-C4烷基;或R62和R63合在一起为-(CH2)4-或-(CH2)5-;R64是H、C1-C14烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C4烷氧基、苯基、苯氧基或苄氧基;每个R65独立地是CH3、Cl或OCH3;R66是H、C1-C4烷基或C1-C4烷氧基;R67是H、C1-C4烷基或苄基;j是0或1;和k是0或1;条件是(a)当k是0时,那么j是0;(b)当R2是CH2ORa,其中Ra是H、任选地被取代的烷基或苄基时,那么R3不是***基;(c)当R1是每个间位被Cl取代的苯基时,那么苯基在对位上也被R7所取代;(d)当R1是对位上被R7取代的苯基时,该R7不是叔丁基、***基或任选地被取代的苯基;(e)当R1是环丙基或任选地被1-5个R6取代的异丙基时,那么R不是C(=W)N(Rb)S(O)2-Rc-Rd,其中W是O、S、NRe或NORe;Rb是氢、C1-C4烷基、C2-C6链烯基或C2-C6炔基;Rc是直接键或CHRf、O、NRe或NORe;Rd是具有5-6个环原子的任选地被取代的杂环或碳环芳基,该基团任选地与芳香或非芳香5-或6-元环稠合;每个Re独立地是H、C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基或苯基;和Rf是H、C1-C3烷基或苯基;和(f)式I化合物不是6-氨基-5-硝基-2-苯基-4-嘧啶丙二酸二乙酯。更具体而言,本发明涉及式I化合物,包括所有的几何和立体异构体、其N-氧化物或农业上适合的盐。本发明还涉及包含除草有效量的式I化合物和至少一种表面活性剂、固体稀释剂或液体稀释剂的除草组合物。本发明还涉及包括用除草有效量的式I化合物(例如,以本文所述的组合物)接触植物或其环境来防治不需要的植物生长的方法。本发明还涉及一种除草混合物,包含除草有效量的式I化合物和有效量的至少另外一种选自其他除草剂和除草安全剂的活性成分。本发明还涉及一种除草组合物,包含除草有效量的式I化合物,有效量的至少另外一种选自其他除草剂和除草安全剂的活性成分,和至少一种表面活性剂、固体稀释剂或液体稀释剂。发明详述本文使用的术语“包含”、“含有”、“含”“包括”、“有”、“具有”或任何其他的变体,意思是覆盖非排除性的包含方式。例如,包含一系列要素的组合物、过程、方法、物品或设备不必仅限于上述要素,还可包括其他未明确列出的或上述的组合物、过程、方法、物品或设备本身固有的其他要素。另外,除非明确有相反的陈述,“或”指的是包括性的而不是排除性的。例如,条件A或B满足下列任一条件A是正确的(或存在的)和B是错误的(或不存在的),A是错误的(或不存在的)和B是正确的(或存在的),以及A和B都是正确的(或存在的)。另外,本发明上述的要素或组分的不定冠词“一个”和“一种”意思是非限制性的关于要素或组分的实例(即存在)的数目。因此,“一个”和“一种”应当理解为包括一种或至少一种,并且要素或组分的单数形式还包括复数的情况,除非该数值的意思明显为单数。在上文的陈述中,术语“烷基”即可单独使用,也可在组合词如“烷硫基”或“卤代烷基”中使用,它包括直链或支链烷基,如***、乙基、正丙基、异丙基、或不同的丁基、戊基或己基异构体。“链烯基”包括直链或支链的烯烃,如乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基和不同的丁烯基、戊烯基和己烯基异构体。“链烯基”还包括多烯,如1,2-丙二烯基和2,4-己二烯基。“炔基”包括直链或支链的炔烃,如1-丙炔基、2-丙炔基和不同的丁炔基、戊炔基和己炔基异构体。“炔基”也包括含有多个三键的基团,如2,5-己二炔基。“烷氧基”包括,例如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基和不同的丁氧基、戊氧基和己氧基异构体。“烷氧基烷基”指的是烷基上的烷氧基取代。“烷氧基烷基”的实例包括CH3OCH2、CH3OCH2CH2、CH3CH2OCH2和CH3CH2OCH2CH2。“链烯基氧基”包括直链或支链的链烯基氧基部分。“链烯基氧基”的实例包括H2C=CHCH2O、(CH3)CH=CHCH2O和CH2=CHCH2CH2O。“炔基氧基”包括直链或支链的炔基氧基部分。“炔基氧基”的实例包括HC≡H2O。“烷硫基”包括支链或直链的烷硫基部分,例如甲硫基、乙硫基、和不同的丙硫基和丁硫基异构体。“烷基亚磺酰基”包括烷基亚磺酰基的全部两种对映体。“烷基亚磺酰基”的实例包括CH3S(O)、CH3CH2S(O)、CH3CH2CH2S(O)、(CH3)2CHS(O)和不同的丁基亚磺酰基异构体。“烷基磺酰基”的实例包括CH3S(O)2、CH3CH2S(O)2、CH3CH2CH2S(O)2、(CH3)2CHS(O)2和不同的丁基磺酰基异构体。“烷基氨基”、“二烷基氨基”、“链烯基硫基”、“链烯基亚磺酰基”、“链烯基磺酰基”、“炔基硫基”、“炔基亚磺酰基”、“炔基磺酰基”等根据上述实例进行类似地定义。“环烷基”包括,例如环丙基、环丁基、环戊基和环己基。“环烷基烷基”的实例包括环丙基***、环戊基乙基、和键合到直链或支链烷基上的其他环烷基部分。“烷基环烷基”指的是环烷基部分上的烷基取代。实例包括4-***环己基和3-乙基环戊基。术语“杂芳环”包括完全芳香的杂环。“芳香”或“芳”指的是每个环原子基本上在同一平面,并具有垂直于环平面的p轨道,其中与环相关的(4n+2)个π电子(n是0或正整数)符合Hückel规则。术语碳环芳基与术语碳环型的芳基是同义的。多种合成方法在本领域是已知的,用以制备芳杂环;hemistry,,PergamonPress,Oxford,1984,hemistryII,,,PergamonPress,Oxford,1996。表述R7的5-或6-元杂芳环一般包含1-4个杂原子环成员,所述杂原子成员选自0-4个N、0-1个O和0-1个S原子。列组1列出了杂芳环的实例;H-1至H-55应理解为举例解释,而不是限制本发明范围内的杂芳环。列组1

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