射频磁控溅射zno：al薄膜及其特性的研究.pdf

摘要关键词:透明导电氧化物薄膜:��∧ぃ簧淦荡趴亟ι�有样品均在室温下沉积。同时应用�湎哐苌湟���、原子力显微镜����学性能的影响。∥��篈���薄膜因其低电阻率与高可见光区透射率有望替代���晌�主要的透明导电氧化物���牧稀O喽杂贗�材料,��∧ぴ�牧戏岣唬�价格低廉且无污染,是理想的透明导电氧化物材料。目前用以制备��∧さ�方法有多种,其中磁控溅射技术因其高的沉积速率与均匀性被认为是重要的制备��∧さ募际踔�弧�本论文利用射频磁控溅射技术,以��篈����%���为靶材在石英玻璃衬底上制备多晶��∧ぁNA擞氚氲继逯圃炝煊虻陌�牍ひ障嗉嫒荩��扫面电子显微镜���⒍硇5缱幽芷滓���、�湎吖獾缱幽芷滓���、,研究了不同射频功率、�气压强、薄膜厚度以及退火温度对薄膜结构特性、组分特征、电学性能与光研究表明,��∧のA�窍宋�靠蠼峁梗�蔆轴择优取向,由于薄膜在室温下沉积,薄膜结构疏松多孔。对薄膜的组分分析表明薄膜为富氧态,而薄膜偏离化学剂量比的原因为疏松的结构引起的晶粒边界上��拥奈�健Mü��溅射工艺的优化在��射频功率与���研究发现,对于室温下制备的��∧ぃ�圃计涞缪�阅芴岣叩闹饕R蛩�为晶粒边界上的��游�剑�蛭K�冉档土吮∧さ脑亓髯优ǘ扔窒拗屏嗽亓�子在晶粒问的迁移。同时当样品在�中������退火�种邮保�庵諳原子的吸附将使漳膜中的舢原子被氧化从而破坏其作为施主杂质的活性,并最终导致薄膜导电性能失效。另外,随着薄膜厚度的增加薄膜的�嶂鸾シ⑸�阈保�这是由于锥状的����媸艿浇ι涫辈��母吣躉原子的轰击造成的。�气压强下得到最低电阻率为��������可见光区透射率�%以上的��∧ぁ�
.�������������������琣�����������������,��������甆����瑅������ⅱ鬷���%.������—�������,�����—�������,����瑆�����������%�������.����瑃���猼��,����琣�����珹�������甌������,�������琫��������.����琣����������������.�.�猘��
:���������������������籄����籖����������������������瑆��
声明人��每、身刈矽�晁暝隆伟�厦门大学学位论文原创性声明兹呈交的学位论文,是本人在导师指导下独立完成的研究成果。本人在论文写作中参考的其他个人或集体的研究成果,均在文中以明确方式标明。本人依法享有和承担由此论文产生的权利和责任。
作者签名:每�池兹掌冢荷癵年�率�导师签名:装彩日期:易�鴕月丛,日厦门大学学位论文著作权使用声明本人完全了解厦门大学有关保留、使用学位论文的规定。厦门大学有权保留并向国家主管部门或其指定机构送交论文的纸质版和电子版,有权将学位论文用于非赢利目的的少量复制并允许论文进入学校图书馆被查阅,有权将学位论文的内容编入有关数据库进行检索,有权将学位论文的标题和摘要汇编出版。保密的学位论文在解密后适用本规定。本学位论文属于�⒈C����年解密后适用本授权书。�⒉槐C��朐谝陨舷嘤�ê拍诖颉��獭���
第一章绪论��引言近年来,随着信息社会的发展,光电产品的数量与种类也与日俱增,如光电显示、光电存储、光通讯、光电转换和光电探测等,而透明电极又是这些光电器件的重要部件。多种金属如�、�、�、�、�、�、舢、�,在形成���厚的薄膜时,在可见光范围内都有某种程度的透射率,因此都曾被当成透明电极来使用。但金属薄膜对光的吸收太大,硬度低而且稳定性差,因此人们开始研究氧化物、氮化物、氟化物等透明导电薄膜的形成方法及物性。其中,由金属氧化物构成的透明导电材料���������,以下简称为���丫��表��一些��牧系墓庋В�缪�阅��为透明导电膜的主角,而且近年来的应用领域及需求量不断地扩大【����������·透射谱范围为������
限,成本较耐������为重金属元素会污染环境,���要在较高温度下沉历史上第一个��∧な怯葿�������昀�萌妊趸�娘颖∧ぶ瞥蓀��但至第二次世界大战以来,由于军事上的需要,透明导电氧化物薄膜才得到广泛的重视和应用。��牧暇哂懈叩绲悸视肟杉�夥段Ц咄干渎实忍匦浴D壳熬哂�代表性的��牧嫌蠸����琁����,����琙���,以及他们的一些掺杂合金,如���胁羧隨���,��胁羧階���或�������中掺入���,����駻���等。表����出了这些��闹票阜椒�以及性能参数。由表��中可以看出,��掀渌�牧嫌懈�偷牡缱杪始案�叩目杉�馔干�率。故其已经在太阳能电池、发光二极管����氲继寮す馄���⒁壕�显示器