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薄膜太阳能.ppt

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薄膜太阳能激光在薄膜太阳能电池中的应用:刻膜(P1、P2、P3)非晶硅(α—si)电池CdTe薄膜太阳能电池BIPV刻划(打点或划线P4)扫边特殊应用**激光刻膜机非晶硅薄膜太阳能电池激光加工流程**薄膜太阳能电池刻划过程P1层:透明导电膜(TCO)1064激光刻划P2层:非晶硅膜532激光刻划P3层:铝膜(背电极)532激光刻划**完成刻膜后的电池**P1层实际刻划效果P1刻划线宽:≈40μm材料:≈650nmSnO薄膜刻划功率:750mW重复频率:20kHz刻划速度:900mm/s,500mm/s,100mm/s 焦点光斑:35-40μm**P2层实际刻划效果P2刻划线宽:≈40μm材料:≈220nmα-Si刻划功率:330mW重复频率:60kHz刻划速度:,,900mm/s焦点光斑:35-40μm**P3层实际刻划效果P3刻划线宽:≈40μm材料:≈570nmZnAl/α-Si刻划功率:350mW重复频率:60kHz刻划速度:2m/s,,1m/s焦点光斑:35-40μm**碲化镉(CdTe)薄膜太阳能电池P2刻划线宽:≈50μm材料:≈:400mW重复频率:50kHz刻划速度:2m/s**/*

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