对乙酰氧基苯乙酮的合成研究.doc

毕业论文题目:  对乙酰氧基苯乙烯的合成研究指导教师:李华院系:  化工食品学院专业:  应用化工(普招)姓名:  刘志超学号:  201226120120对乙酰氧基苯乙烯的合成研究摘要:对乙酰氧基苯乙烯可用于合成作为光致抗蚀剂(光刻胶)主要成分的聚对羟基苯乙烯。本文介绍了中间体对乙酰氧基苯乙烯的合成方法,其主要采用对羟基苯乙烯、对羟基苯甲醛、对乙基苯酚及衍生物等为原料合成。关键词:对乙酰氧基苯乙烯对羟基苯乙烯对羟基苯乙烯对羟基苯甲醛对乙基苯酚文章编号:1006-253x(2005)11-008-6中图分类号::AProgessinthesynthesisof4-acetoxystyreneZhaoShuangxiaZhangYilingCuiYunzi(ResearchInstituteofQiluBranchCo.,SINOPEC,zibo,255400)Abstract:4-acetoxystyreneisanintermediateinthepreparationofPoly(4-hydroxystyrene),themethodsofsynthesizing4-acetoxystyrenemainlyfrom4-hydroxyacetophenone、4-hy-droxybenzaldehyde、4-:4-acetoxystyrene4-hydroxystyrene4-hydroxyacetophenone4-hydroxybenzaldehyde4-、前言分辨率的芯片,尽管可以提供少量深紫外光刻胶产品,但无法满足国内需求。通常,聚对羟基苯乙烯通过对叔丁氧基苯乙烯、对叔丁氧酰氧基苯乙烯、对乙酰氧基苯乙烯等中间体聚合,形成相应的聚合物,再经处理脱除对叔丁氧基、对乙酰氧基等保护基后得到。对乙酰氧基苯乙烯是最早用于研究合成聚对羟基苯乙烯系列光致抗蚀剂的中间体,对羟基苯乙烯乙酰化后可得到对乙酰氧基苯乙烯,本文主要综述了对乙酰氧基苯乙烯及对羟基苯乙烯的合成方法[1-2]。对乙酰氧基苯乙烯可用于合成作为光致抗蚀剂(光刻胶)主要成分的聚对羟基苯乙烯。聚对羟基苯乙酮系列的化学增幅型光致抗蚀剂是目前国际上主流的光致抗蚀剂产品,是用于处理光蚀刻集成电路、制造芯片的关键技术之一。~,发展到改用深紫外光(波长248nm),更可通过超深紫外光(波长193nm)。248nm光刻胶通常采用聚对羟基苯乙烯衍生物为成膜树脂,芳基碘鎓盐或硫鎓盐作为光致产酸剂,运用化学增幅技术,在光作用下光致酸发生剂释放出酸,然后酸催化使聚合物交联(负胶)或发生脱保反应(正胶),从而使感光灵敏度极大地提高。-1μm二、·9·,Corson等人[3]提出了从苯酚出发经对羟基苯乙烯、对乙酰氧基苯乙烯、对乙酰氧基苯基甲基甲醇制备对乙酰氧基苯乙烯的方法。赫希斯特人造丝公司改进了上述的经对乙酰氧基苯乙烯、对乙酰氧基苯基甲基甲醇制备对乙酰氧基苯乙烯的方法,同时也提供了一种制备聚对羟基苯乙烯的方法[4-10],反应过程见图1。首先对羟基苯乙烯乙酰化,得到对乙酰氧基苯乙酮。对羟基苯乙烯与醋酐,~1000毫米汞柱的压力和135~150℃的初始温度,然后降低到35~85℃条件下,进行回流2~20小时生成对乙酰氧基苯乙烯。然后对乙酰氧基苯乙烯再经无溶剂氢化生成对乙酰氧基苯基甲基甲醇。在无溶剂存在,至少达化学计算量的氢及选自钯/碳或活性镍(如Raney镍)的催化剂的存在下,将对乙酰氧基苯乙烯于60~90℃的温度下,加热2~7小时制取对乙酰氧基苯基甲基甲醇。乙烯。此外,日本ADCHEMCO公司也研究了另一种经对乙酰氧基苯基甲基甲醇制备对乙酰氧基苯乙烯的方法[12]。即对乙酰氧基苯乙烯加氢得到对乙酰氧基苯基甲基甲醇,然后卤化(SOCl2),再脱氯制得产品对乙酰氧基苯乙烯。,经对羟基苯基甲基甲醇制备对乙酰氧基苯乙烯的方法。该方法工艺步骤少,而且对羟基苯基甲基甲醇在酸催化剂和乙酰化试剂的存在下,加热脱水直接形成对乙酰氧基苯乙烯[13-15]。