光刻胶用户调查表.doc

光刻胶用户调查表
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当您无法确定如何选择光刻胶型号时，请您填写如下表格并发送给我们，我们将为您推荐合适的产品并提供相关的产品信息。
Photolithography
E-beam lithography
Mix & match
Deep UV (248nm)
I-line (365nm)
G-line (436nm)
Substrate
silicon
SiO2/glass

Kind of image
positive
negative
image reversal
Kind of coating
spin coating
dip coating
spray coating
Layer thickness
µm
µm
Structure width
>5µm
≤2µm
sub-µm
Contrast
small(<1µm)
medium(1-3)
high(>3)
Process of etching
liquid
pH
plasma
Edge profile
<85°
85-90°
lift-off
colouring against stray radiation and standing waves
high adhesion
silylation
planarization
edge covering of pronounced topologies
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北京汇德信科技有限公司
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