磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及发光特性研究.pdf

第!"卷 !第#期! !!!!!!!!!!!光 谱 学 与 光 谱 分 析 $%&'!"!(%'#!))!/!"-!/,!
!/直接带隙宽度为,'!#,'?1$(?)! 了2轴高择优取向的 G8D 薄膜!研究了生长温度对 G8D 薄
激子束缚能高达E/<1$$G8D 具有较高的化学%机械稳定 膜微观结构及光学特性的影响!报道了?//8<左右的紫光%
性及优异的光电学特性!在光发射二极管"PT@#%透明电极% ??E8<左右的蓝光发射!并对其发光机理进行了分析$
蓝+紫光发射器件等方面具有广泛的应用(+)!研究 G8D 薄膜
的发光特性具有十分重要的意义$ *!实!验
到目前为止!G8D薄膜可见光发射的来源仍存在较大争
(E-")
议 !已有的研究表明氧空位"$D#%锌空位"$G8#%锌填隙 !!样品采用射频反应磁控溅射法在fWR+E/B型超高真空
"G8;#等薄膜内部的本征缺陷对G8D薄膜的可见光发射有着 磁控溅射设备上制备$采用纯度为##'##^的金属G8靶!直
重要影响!但影响本征缺陷种类和浓度的因素则存在着多种 径E/<<!厚度?<<&玻璃衬底在制备前用甲苯%丙酮%乙
(.)
推测!如结晶质量和化学计量比等 !具体的发光机理有待 醇及去离子水依次进行超声清洗*+<;8!清洗完毕用 (! 气
更深入的研究$目前!已经有大量关于用不同方法在各种衬 吹干迅速放入真空室$样品制备过程中真空室气氛为纯度优
(.!#-**)
底上生长G8D薄膜方面的报道 !利用反应磁控溅射法 于##'##^的 :4和 D! 的混合气体!基片与溅射靶的间距为
!收稿日期!!//.-/,-/*%修订日期!!//.-/+-!"
!基金项目!国家自然科学基金项目"E/!.E/*+#!甘肃省自然科学基金资助项目"/.*/SfG:*/+#和甘肃省高分子材料重点实验室开放基金项
目"KA-/+-/,#资助
!作者简介!徐小丽!*#"!年生!西北师范大学物电学院凝聚态物