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GaMnAs薄膜制备及GaMnAsNPB异质结物理性质研究的中期报告.docx
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GaMnAs薄膜制备及GaMnAsNPB异质结物理性质研究的中期报告.docx
该【GaMnAs薄膜制备及GaMnAsNPB异质结物理性质研究的中期报告 】是由【niuww】上传分享,文档一共【2】页,该文档可以免费在线阅读,需要了解更多关于【GaMnAs薄膜制备及GaMnAsNPB异质结物理性质研究的中期报告 】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。GaMnAs薄膜制备及GaMnAsNPB异质结物理性质研究的中期报告本中期报告主要介绍GaMnAs薄膜制备及GaMnAs/NPB异质结的物理性质研究进展。一、GaMnAs薄膜制备我们采用了分子束外延(MBE)方法制备GaMnAs薄膜。具体步骤为:在GaAs(100)衬底上先生长5层GaAs作为缓冲层,然后生长50nm的GaMnAs薄膜,最后用氩离子轰击进行退火处理。我们将样品分为两组进行退火:一组在320℃下退火,另一组在350℃下退火。二、GaMnAs/NPB异质结的物理性质研究我们采用了多种测试技术对GaMnAs/NPB异质结的物理性质进行研究。(SQUID)测试系统,我们对样品在不同温度下的饱和磁化强度进行了测量。结果表明,样品在低于15K时出现了明显的铁磁性,且在不同温度下的饱和磁化强度存在明显差异。另外,我们也测量了样品在不同磁场下的磁滞曲线,发现样品具有良好的磁畴结构。、透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)等多种光学测量技术,对样品的优异性能进行了表征。激光透射光谱结果表明样品具有很好的光学性质,对于不同能量的激光辐照有很好的响应。同时,TEM和SEM结果表明,样品的表面形貌和结构均很优异。三、结论及展望通过对GaMnAs薄膜制备及GaMnAs/NPB异质结的物理性质进行中期研究,我们得出以下结论:。,并且具有良好的表面形貌和结构。未来,我们将继续对GaMnAs/NPB异质结的物理性质进行深入研究,探究其在器件应用方面的可能性,并拓展更多的应用领域。
GaMnAs薄膜制备及GaMnAsNPB异质结物理性质研究的中期报告 来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.
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