室温下金属Al、Au纳米膜与硅基片相互作用及膜光、电特性研究的中期报告.docx

该【室温下金属Al、Au纳米膜与硅基片相互作用及膜光、电特性研究的中期报告 】是由【niuww】上传分享，文档一共【2】页，该文档可以免费在线阅读，需要了解更多关于【室温下金属Al、Au纳米膜与硅基片相互作用及膜光、电特性研究的中期报告 】的内容，可以使用淘豆网的站内搜索功能，选择自己适合的文档，以下文字是截取该文章内的部分文字，如需要获得完整电子版，请下载此文档到您的设备，方便您编辑和打印。室温下金属Al、Au纳米膜与硅基片相互作用及膜光、电特性研究的中期报告本文主要介绍室温下金属Al、Au纳米膜与硅基片相互作用及膜光、电特性研究的中期报告。、Au纳米膜,制备参数如下:m,压力为2×10^-3Torr,靶与基片距离为5cm,溅射时间为30min。制备完毕后利用扫描电子显微镜(SEM)观察膜的表面形貌,通过光电子能谱(XPS)分析膜的化学成分。通过外部电路测量Al、Au纳米膜的电学特性,可以得到改变温度对二者电学性质的影响。同时,还测量了Al、Au纳米膜的光学特性,包括透过率、反射率和吸收率。,Al、Au纳米膜都具有很好的均匀性和致密性,没有出现明显的裂纹和孔洞。XPS分析结果表明,所制备的Al、Au纳米膜的元素组成几乎为纯金属,没有明显的氧化物形成。电学性质方面,随着温度的升高,Al、Au纳米膜的电阻率均呈现出随温度升高而降低的趋势。其中,Au纳米膜的电阻率随温度变化的规律较为平滑,而Al纳米膜的电阻率随温度变化的规律呈现出明显的起伏。光学性质方面,Al、Au纳米膜的透过率、反射率和吸收率均随波长的变化而变化。其中,Au纳米膜的透过率和反射率均比Al纳米膜高,而吸收率则低于Al纳米膜。此外,Au纳米膜的透过率和反射率均随膜厚增加而增加,而吸收率则随膜厚增加而减小;而Al纳米膜的透过率和吸收率均随膜厚增加而减小,而反射率则随膜厚增加而增加。、Au纳米膜与硅基片相互作用及膜光、电特性。实验结果表明,所制备的Al、Au纳米膜具有良好的均匀性和致密性,化学成分几乎为纯金属。电学性质方面,随着温度升高,Al、Au纳米膜的电阻率均呈现出随温度升高而降低的趋势,但Al纳米膜的电阻率变化规律较为复杂;光学性质方面,Au纳米膜的透过率和反射率均比Al纳米膜高,吸收率则低于Al纳米膜。此外,Au纳米膜的透过率和反射率随膜厚增加而增加,而吸收率则随膜厚增加而减小;而Al纳米膜的透过率和吸收率均随膜厚增加而减小,反射率则随膜厚增加而增加。