1脉冲激光沉积制备mgb-%2c2-薄膜研究.pdf

摘要本论文采用传统无压烧结方法和放电等离子烧结���椒ǚ直鹬票噶说�质硼��泻蚆��胁模�冉狭肆街稚战岱椒ǘ园胁男阅艿挠跋臁2捎寐龀寮�首先在单晶����咨喜捎梅窃�环椒ǔ粱�似秸�那扒�鹉ぃ�谟呕�薄膜。研究发现封管气氛对薄膜质量影响较小,且��晶粒随着退火温度的升高和保温时间的延长而增大。原子力显微分析表明晶粒呈岛状分布,连通性不好,这是超导转变温区较宽的原因。另外采用非原位方法在金属�基底上的薄膜为无择优取向的多晶,且粗糙度大于在单晶基底上非原位制备获得的察薄膜的表面较平整,晶粒细小均匀。最后将所得的原位法和非原位法制备的自��年秋光纯教授发现��的超导性之后,超导科学迈入了一个崭新的时代。��材料廉价,分布广泛,不存在弱连接,具有��俳缱1湮露龋�可以利用制冷技术达到,而不必使用昂贵的液氦,是制作约瑟夫森器件的良好材料。而制备高质量��薄膜,是成功制备超导结的前提条件。在过去的几年中人们已经发展了多种��薄膜的制备方法,脉冲激光沉积��������,��因其污染小,加热区域集中等优点,备受各国学者青睐。光沉积技术�����梅窃�缓驮�涣街址椒ǚ直鹬票富竦昧薓��∧ぃ��过光电子能谱���治隽饲扒�鹉さ拇慷龋徊捎肵射线衍射表征了所制备的靶材和薄膜的相成份;利用扫描电镜���驮�恿ο晕⒕���分别分析了薄膜表面形貌和表面粗糙度;通过表面轮廓仪测量了所制备的薄膜厚度;使用标准四引线法测量了薄膜的超导转变温度,通过优化工艺,最终获得了��超导薄膜,并取得如下结果:的沉积工艺条件下所获的薄膜厚度为����,其表面粗糙度为�.���Mü���治霰∧ぶ忻挥醒趸�穑�慷冉细摺K婧蠼��玫呐鹉し獯嬗诰哂忻究榈�真空石英管中,在����轮��。�N耹小时获得了瓦为�.�的��制备了前驱�ぃ�⒄婵辗夤芎笸嘶鹨埠铣闪薓��唷>璛射线衍射分析所得��薄膜。采用��椒ㄔ诘ゾЩ�咨显�恢票噶薓��∧ぁNA思跎俦∧ぶ蠱�的含量,优化后确定的原位双靶制备��薄膜的气压为��。通过������
韭����椿�事�净屎诶孤���颗肼绰�苛���薄膜进行对比,通过原子力分析,结果发现原位沉积退火所获得的薄膜表面平整度较非原位法制备的薄膜高,而相比之下,本试验中采用非原位法更容易获得具有超导转变湿度的��薄膜。总之研究表明,非原位方法是目前条件下易于制备��薄膜的方法,在优化工艺后本研究用此方法获得了瓦转变为�.�的薄膜。下一步应当在提高初始超导转变温度不,超导转变宽度矗疋以及提高超导薄膜平整度方面开展工作。丽原位法制备的薄膜表西更加平整,更适合于制作超导终,应该具有更好的应用前景。下一步需要解决这种方法制备薄膜中难于成相的问题,控制和优化工艺参数,提高蔫这种方法制备��薄膜的重复性和获得具有高转变温度的薄膜。关键词超导材料;��薄膜;疋�谖碜1湮露�;非原位法;原位法北京工业犬掌工掌硕士学憾论文�.�������...
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网霸:趔�茫��独创性声明关于论文使用授权的说明���。�分内容,可以采用影印、缩印或其他复制手段保存论文。本人声明所里交酶论文是我个人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。尽我所知,除了文中特别加以标注和致谢的地方外,论文中不包含其他人已经