射频磁控溅射法制备zro2薄膜及其特性研究.pdf

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作者签名:温芎缎作者签名:书釜芎较日期:如防年月同期珈年手月/同日期:妒/舟溯/日哈尔滨理工大学硕士学位论文原创性声明哈尔滨理工大学硕士学位论文使用授权书本人郑重声明:此处所提交的硕士学位论文《射频磁控溅射法制备薄膜及其特性研究》,是本人在导师指导下,在哈尔滨理工大学攻读硕士学位期间独立进行研究工作所取得的成果。据本人所知,论文中除已注明部分外不包含他人已发表或撰写过的研究成果。对本文研究工作做出贡献的个人和集体,均己在文中以明确方式注明。本声明的法律结果将完全由本人承担。《射频磁控溅射法制备薄膜及其特性研究》系本人在哈尔滨理工大学攻读硕士学位期间在导师指导下完成的硕士学位论文。本论文的研究成果归哈尔滨理工大学所有,本论文的研究内容不得以其它单位的名义发表。本人完全了解哈尔滨理工大学关于保存、使用学位论文的规定,同意学校保留并向有关部门提交论文和电子版本,允许论文被查阅和借阅。本人授权哈尔滨理工大学可以采用影印、缩印或其他复制手段保存论文,可以公布论文的全部或部分内容。本学位论文属于保密口,在年解密后适用授权书。不保密因。朐谝陨舷嘤Ψ娇蚰诖颉ⅲ导师签名:
射频磁控溅射法制备薄膜及其特性研究摘要二氧化锆薄膜具备其它第Ⅳ褰鹗粞趸锉∧に痪弑傅暮芏嘤帕夹能。尤其二氧化锆薄膜的某些卓越的光学特性,比如在很宽的波谱范围内的光子吸收效率很低,光学损伤阈限很高等,使其在滤光器、分光镜、增透膜和增反膜等光学元器件中得到广泛应用。另外,薄膜其它方面的优良性能使其在纳米材料、记忆材料、多层膜复合材料以及微电子材料等领域都有很广泛地应用。所以制备出高质量的二氧化锆薄膜并研究其特性具有很现实的重要意义。本文在国产多功能多元镀膜系统中采用射频磁控溅射法,ü啻胃谋涔ぷ髌遄苎骨亢脱蹼擦髁勘鹊冉ι工艺条件在普通玻璃基底上沉积薄膜。最终在工作气体总压强为,基底温度为妫ι涔β饰墓ひ仗跫轮票噶司哂杏帕荚裼湃∠的薄膜。将制备的高质量薄膜样品分别在婧℃的条件下退火处理。℃、嫱嘶鹎昂蟮薄膜进行分析,结果表明二氧化锆有其择优生长的方向,经过嫱嘶处理后薄膜的颗粒有所增大,结晶性更好。用驮恿ο晕⒕分别对婧℃退火前后的薄膜表面进行扫描,结果表明嫱火后薄膜表面没有明显变化,二氧化锆晶粒尺寸比较小,嫱嘶鸷蟊∧け面相对平整,晶粒尺寸也相对变大,晶粒重新结晶,薄膜结晶度更好。用型紫外分光光度计测试嫱嘶鹎昂蟮谋∧ね腹饴剩鄄馔干淦追⑾侄氧化锆薄膜在波长约为段谕干渎氏喽越细撸诓ǔぴ嘉保干渎是叱鱿址逯担彝嘶鸷螅干渎视兴龃蟆J褂肍扫描电子显微镜对薄膜样品进行成分分析,从能谱图中得出样品中素和元素比例接近。通过这一系列的实验得出了射频磁控溅射法制备薄膜的最佳工艺,并经过嫱嘶鸶纳屏吮∧さ耐腹饴省关键词射频磁控溅射镀膜;二氧化锆薄膜;薄膜结晶度:透射率哈尔滨理大学工学硕士学位论文
甌℃—琧哈尔滨理工大学工学硕士学位论文痶.,,,,.猚,.,甌..,,
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目录摘要⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.第滦髀邸课题背景和意义⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯国内外薄膜的研究现状⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.课题研究的主要内容⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯第耑∧だ砺刍〖爸票阜椒ā薄膜结构和性质⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯薄膜的制备方法⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.第律淦荡趴亟ι鋃∧ぜ氨碚鳌射频磁控溅射理论基础⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.薄膜的表征技术⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.湎哐苌浼际⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.璧缱酉晕⒕⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.恿ο晕⒕⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯一第耑∧さ牟馐约敖峁治觥溅射工艺对薄膜的影响⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.ぷ髌遄苎骨慷訸∧さ挠跋臁哈尔滨理工大学工学硕二学位论文......⋯...⋯.......⋯.........⋯...............................⋯..⋯⋯.⋯.⋯⋯⋯⋯.⋯.⋯.....⋯..⋯...
.蹼擦髁勘榷訸∧さ挠跋臁退火处理对薄膜的影响⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯薄膜表面的治觥.∧こ煞帜芷追治觥.∧け砻娼峁狗治觥薄膜的透射率分析⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..本章小结⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..结论⋯⋯⋯⋯