低折射率纳米多孔二氧化硅薄膜的疏水性.pdf

第36卷第2期 2008年2月硅酸盐学报 JOURNALOFTHECH11ESECERAMICSoCIETY , February,2008 低折射率纳米多孔二氧化硅薄膜的疏水性姚兰芳L2,鲁凤芹,岳春晓1,沈军,吴广明(,上海200093;,上海200092) 摘要:采用溶胶壤胶技术,通过HC1控制酸性的酸,酸二步法,以十六烷基三甲基溴化氨为模板剂,正硅酸乙酯为硅源,以及水、盐酸等为原料, 制备二氧化硅前驱体溶胶。用甲基三乙氧基硅烷(methyeIhoxysi1ane,MTES)改性,制备疏水型SiO2前驱体溶胶。结果表明:采用MTES改性制备的二氧化硅薄膜的疏水性能、光学性能、力学性能等各项性能效果更好;通过简单提拉、,且在 ~,根据测得的折射率,%,。其红外光谱表明,所制备的薄膜由于掺入甲基基团而疏水, 水滴在薄膜表面上的照片的结果进一步支持这一结论。关键词:溶胶—凝胶;多孔二氧化硅;低折射率;疏水:甲基三乙氧基硅烷中圈分类号:0469 文献标识码:A 文章编号:0454-5648(2008)02-01394)5 HYDRoPHoBICBEHA oR0lFNANopoRoUSSⅡJCAFⅡMS 唧 LoWRE RACTIVE肿 EX YA0Lanfang一,LUFengqin,YUEChunxiao,SHENJun,WUGuangraing2 (,ScienceCollege,UniversityofShanghaiforScienceandTechnology,200093; ,TongjiUniversity,Shanghai200092,China) Abstract:Asilicaprecursorsolwaspreparedbythesol-gelmethodandusingtetraethoxysilaneassilicasource,cetyltrimethylam- monittmbromideastemplatesurfaetantandwithhydrochloricacidandwaterasotherrawmaterials.]f1lesilicaprecursorsolWaSthen modifiedbymethyltriethoxysilane(MTES)amc~- callymodifiedbv~nESisbetterthanthatmodifiedbyhexame-- fl'a~-inducedself-aSsemblyprocessand帆 S %