二氧化硅纳米粒子表面修饰及其表征.pdf.pdf

第 25卷第 6期 2006年 11月分析测试学报 FENXICESHIXUEBAO (JournalofInstrumentalAnalysis ) Vol1 25No1 6 5~ 9 二氧化硅纳米粒子表面修饰及其表征刘晓云 1,赵辉鹏 2,李兰 2,阎捷 2,查刘生 1,2 (,上海 200051; ,上海 200051 ) 摘要:采用溶胶-凝胶法合成粒径在 50~ 150nm范围内的二氧化硅(SiO 2)纳米粒子。用甲基丙烯酸2 32 (三甲氧基硅基)丙酯(MPS )对 SiO 2纳米粒子表面进行修饰,使其表面接枝能参与自由基聚合反应的碳碳双键基团。用元素分析、 FTIR、 P/MASNMR和 29SiCP/MASNMR等手段对修饰过的 SiO 2纳米粒子进行表征, 以确证 MPS接枝在 SiO 2纳米粒子上。分析修饰过的 SiO 2纳米粒子的 29SiCP/MASNMR和 FTIR谱图,还可初步推断 MPS接枝在 SiO 2纳米粒子表面的机理:MPS首先发生水解缩合反应形成低聚物,然后通过氢键作用吸附到 SiO 2纳米粒子表面,最后 MPS低聚物中未缩合的硅羟基与 SiO 2纳米粒子表面的硅羟基发生缩合反应。关键词:SiO 2纳米粒子;表面修饰;甲基丙烯酸2 32 (三甲氧基硅基)丙酯;表征中图分类号:O6131 32;O653 文献标识码:A 文章编号:1004-4957 (2006 )06-0005-05 Surface2 modificationandCharacterizationofSilicaNanoparticles LIUXiao2 yun 1,ZHAOHui2 peng 2,LILan 2,YANJie 2,ZHALiu2 sheng 1,2 (,DonghuaUniversity, Shanghai200051,China;,DonghuaUniversity, Shanghai200051,China ) Abstract:Thesilicananoparticleswithdiameterrangingfrom50nmto150nmwerepreparedbysol- (trimethoxysilyl )propylmethac2 rylate (MPS )tografttheC‖ Cgroupsontheirsurfacethatcanparticipateinfreeradicalpolymeriza2 ,TEM,FTIR, P/ MASNMRand 29SiCP/MASNMRtogiveevidenceofthegraftingofMPStothenanoparticles.