钽掺杂铪基高k栅介质薄膜的离子束制备与表征.pdf

中文摘要素,可有效提高其物理、电学特性。尤其是秤徊样品显示了大的介电常数金属具有高的功函数妣.,因此疕仃//电容在等效厚度残∮贏为了解决由栅介质层过薄而引起的漏电流显著增加的难题,人们引入了一种具有高介电常数咧牟牧侠慈〈车腟F渲校咂卟牧嫌捎诰弑附细叩慕电常数和结晶温度、优异的界面特性和热稳定性以及低的频率色散和漏电流被广泛关注。本实验采用双离子束沉积系统在本底真空和工作气压×之条件下,于电阻率为腟牡咨铣晒χ票噶烁咧柿康腡和∧ぁ着重探究了薄膜微结构、介电特性与辅源离子能量、掺杂含量之间的潜在关系。此外,还研究了不同金属栅电极卧、对鵐电容漏电流、电容值、可靠性、导电机制的影响。实验结果显示:诟ㄔ茨芰下制备的痑∧ぞ哂凶钚〉谋砻娲植诙和优异的界面特性。由甐/甐特征曲线表明,轮票傅腡基缛具有最小的平带电压偏移量、等效氧化层密度以及漏电流。研究表明合适的辅源能量可有效改善薄膜生长机制,使薄膜由类岛状沉积转化为层状生长,从而提高晶粒均匀性、薄膜平整度以及致密性,使薄膜具有较好的电学性质。ü騂中掺杂元高的结晶温度妫〉钠酱缪蛊啤⒀趸愕绾擅芏纫约奥┑缌鳌由于样品的情况下,仍然具有最小的漏电流。总言之,金属极具成为下一代器件中栅电极的潜质。关键词:双离子束;∧ぃ籋皿基电容;结构;电学特性作者:余涛指导教师:诸葛兰剑吴雪梅钽掺杂铪基高七栅介质薄膜的离子束制备与表征
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录目第一章引言⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯高そ橹时∧⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.遦材料的发展历程⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯高そ橹什牧系木咛逡G蟆基高そ橹什牧稀掺杂⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.掺杂⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯粼印新型的“堆垛结构璴迁移率退化的探讨⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯本论文工作的意义及主要研究内容⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯参考文献⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯。第二章薄膜的制备和表征⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..薄膜制备⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.笛樽爸眉吧璞讣际醪问薄膜的沉积⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.∧ず笸嘶鸫怼薄膜的分析表征⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯湎哐苌⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.ず癫饬俊湎吖獾缱幽芷⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.恿ο晕⒕⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..璧缱酉晕⒕⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯...
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