吸附相反应技术制备mnox／ceo2／sio2催化剂及其低温选择性催化还原nox-论文.pdf

物理 化学 学报
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吸附相反应技 术制备 √，催化剂及其低温选择性
催化还原
高琳心 ’ 蒋 新 郭 森。
浙 江大 学化学工 程与生物程学系，杭州 ； 浙江大学环境与资源学院，杭州
摘要 ： 采用 吸 附相 反应技 术制 备得 到 了 催 化 剂，通过 射 线衍射 、透射 电子 显微镜
、高分辨透射 电子 显微镜、紫外激光拉曼等手 段对 催化剂进行了表征．分析表
明活性组 分 与 ：都均匀 分布在载 体 表 面：分析表 明 。特 征峰 随着 含 量的增加逐
渐 减小至 完全消失，的加入 降低 了的结 晶程 度，增 加 了的分散性：光谱表 明催化剂表
面的 离子 能够进入 晶格 ，激 发出空穴氧 ，随着 负载量 的增加，催化剂氧 空穴浓度先升 高后降低．
以。为还原剂，考评催化剂的低温选择性催化还原性能，催化剂催化活性随负载量增加先升
高后降低，与催化剂氧空穴浓度变化规律 一致。说 明催 化剂活性受氧空穴浓度影响，氧 空穴浓度 升高，催化剂催
化活性升高．
关键词： ／催化剂： 低温 ： 选择性催化还原 氧空穴： 吸 附相反应技术
中图分类号：
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