电沉积制备半导体纳米材料
第一页,共20页
*
目录
引言
电沉积纳米材料的制备方法及原理
电沉积法制备半导体CdS纳米膜
应用及展望
参考文献
第二页,共20页
*
引言
长期以来,电沉积合金主要是研究晶体物质, 通常认为是相对比较宏观的物质。
电沉积纳米晶技术则是研究几个纳米到100nm以内的微细晶粒材料的技术。研究纳米晶合金的特性,并开发其应用是目前纳米材料研究的重要方向。用电沉积法制备纳米材料给这项技术注入了新的内涵。
第三页,共20页
*
目前,对电沉积纳米合金技术进行了很多研究,用电沉积方法已制备了多种类型的纳米合金,据不完全统计已超过40种。
电沉积法制备的纳米合金
铁族金属与非金属元素构成纳米合金,如纳米Ni-P合金;
铁族金属和金属元素构成的纳米合金,如纳米Zn-Ni合金;
半导体纳米合金,如纳米Pb-Se合金;
其他纳米合金, 如纳米Pt-Pb 合金
引言
第四页,共20页
*
引言
电沉积制备纳米晶合金的主要优点
1) 电沉积层具有独特的高密度和低孔隙率,结晶组织取决于电沉积参数,就能精确地控制膜层的厚度、化学组分、晶粒组织、晶粒大小和孔隙率等。
2) 适合于制备纯金属纳米晶膜、合金膜及复合材料膜以及粉、管、线、棒、板。
3) 电沉积过程中过电势是主要推动力,容易实现电沉积,工艺灵活,易转化。
4) 可在常温常压下操作,节约能源,并可避免高温引入的热应力。
5) 电沉积易使沉积原子在单晶基质上外延生长,易得到较好的外延生长层。
6) 有很好的经济性和较高的生产率,初始投资低。
第五页,共20页
*
电沉积纳米材料的制备方法及原理
电沉积是一种电化学过程,也是氧化-还原过程,它研究的重点是“阴极沉积”。为了得到纳米晶,在镀液中加入适量的晶粒细化剂是非常有利的,通常加入的细化剂有糖精、十二烷基磺酸钠、尿素等。
电沉积纳米晶材料是由两个步骤控制: (1) 形成高晶核数; (2) 控制晶核的成长。以上两个条件可以由控制化学和物理参数来实现,晶核的大小和数目可由过电势η来控制。可由Kelvin 电化学公式来表示:
式中: r 表示临界晶核形成的半径;δ表示表面能量;η为过电势, V 表示晶体中原子体积; z 表示元电荷数; e0 表示元电荷。
η ↑,r↓
第六页,共20页
*
电沉积纳米材料的制备方法及原理
常用制备
纳米晶的
电沉积方法
直流
电沉积
脉冲
电沉积
复合
电沉积
喷射
电沉积
超声波
电沉积
电刷镀
第七页,共20页
*
电沉积纳米材料的制备方法及原理
直流电沉积法
研究表明,在电沉积过程中采用↑阴极过电势、 ↑吸附原子总数和↓吸附原子表面迁移率是大量形核和减少晶粒生长的必要条件。
成核速率用J表示,则:
式中,K1为速率常数; b为几何指数;S为1个原子在晶格上占的面积;ε为边界能量; kB为波茨曼(Boltzmann)常数; e为电子电荷;z为离子电荷数;T为绝对温度;η为过电势。
由上式可知,过电势η对成核速率有极大的影响。
第八页,共20页
*
电沉积纳米材料的制备方法及原理
而塔菲尔(Tafel)公式表明影响过电势的主要因素是电流密度。
Tafel公式: η=α+β lgi
式中,α和β是常数, i是电流密度
当电沉积的电流密度i ↑时,过电势η ↑, ↑成核速率J。从而可知,生成纳米晶的重要电化学因素,就是有效地提高电沉积时的电流密度及过电势。
第九页,共20页
*
电沉积纳米材料的制备方法及原理
获得纳米晶常采用的工艺措施
(1)采用适当高的电流密度
随着电流密度↑,电极上的过电势↑,使形核的驱动力↑,沉积层的晶粒尺寸↓ 。
(2)采用有机添加剂
结晶细化剂的作用,一方面,添加剂分子吸附在沉积表面的活性部位,可阻止晶体的生长。另一方面,析出原子的扩散也被吸附的有机添加剂分子所抑制,较少到达生长点,优先成核。
第十页,共20页
电沉积制备半导体纳米材料 来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.