射频磁控溅射制备的znmgo薄膜结构和光学性能.doc

------------------------------------------------------------------------------------------------ ——————————————————————————————————————射频磁控溅射制备的 ZnMgO 薄膜结构和光学性能光电子激光第21卷第7期??201 0年7月????????????JournalofOptoelectronics Laser?????????????????? 黄秋柳 1,方??亮 1,2**, 郭北斗 1, 阮海波 1,吴??芳 1, 孔春阳 3* (1. 重庆大学应用物理系重庆 400044;2. 重庆大学光电技术及系统教育部重点实验室重庆 400044;3. 重庆师范大学应用物理系重庆 400047) 摘要: 采用射频磁控溅射法, 在石英衬底上制备了 Zn1-xMgxO(x=~) 薄膜。利用 X 射线衍射(XRD) 、扫描电子显微镜(SEM) 、紫外?? 可见分光光度计和光致发光(PL) 光谱等分析了薄膜的结构、形貌和光学特性。结果表明:当 x?? 时薄膜保持六角纤锌矿结构,而 x= 时已出现 MgO 立方相; 所有薄膜晶粒大小均匀,在 100~150nm 之间; 透光率在 80% 以上; 薄膜带隙 Eg与 Mg 含量呈线性关系; 薄膜 PL 谱由较弱的紫外发光峰和较强的可见发光带组成,随 Mg 含量的增加紫外发光峰蓝移。关键词:ZnMgO;ZnO; 晶体结构; 光学性能; 磁控溅射中图分类号:???? 文献标识码:A???? 文章编号:1005??0086(2010)07??1021??05 ------------------------------------------------------------------------------------------------ —————————————————————————————————————— StructureandopticalpropertiesofZnMgOthinfilmspreparedby ronsputtering HUANGQiu??liu1,FANGLiang1,2**,GUOBei??dou1,RUANHai??bo1,WUFa ng1, 3KONGChun??yang (,ChongqingUniversity,Chongqing400044, China;?? lectronicTechnologyandSystemsoftheEducationMinistryofChina,Chongqi ngUniversity,Chongqing400044, China;,ChongqingNormalUniversity,Chong qing400047,China) Abstract:AseriesofZn1??xMgxO(x=-)filmshavebeenpreparedonq uartzsubstratesbyRF ,includingX??ray diffraction(XRD),scanninge?? ------------------------------------------------------------------------------------------------ —————————————————————————————————————— lectronmicroscope(SEM),UV??Visspectrophotometer,andphotoluminesc encemeasurement,havebeen usedtoinvestigatethecrystalstructure,surfacemorphology,andopticalprop ertiesofthefilms,respec?? . 1arewithoutphase separation;thefilmsareuniformwithgrainsizeintherangeof100-150nm;the opticaltransmit