磁控溅射制备tio2 薄膜及其光学特性研究.doc

------------------------------------------------------------------------------------------------ ——————————————————————————————————————磁控溅射制备 TiO2 薄膜及其光学特性研究第37卷第6期2010年6月 doi : 10 . 3969/j . issn . 1009-671X . 应用科技 Applied Science and Technol ogy , №.6 磁控溅射制备TiO2薄膜及其光学特性研究周继承,陈宇,赵保星(中南大学物理科学与技术学院,湖南长沙410083) 摘要: 采用直流反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备TiO2薄膜. 用紫外-可见光分光光度计和AFM分别表征了薄膜的透射率和表面形貌, 用包络线法详细研究了不同衬底温度下TiO2薄膜的光学特性. 结果表明: 薄膜在可见光波段有很高的透明度, 且随着衬底温度的升高, 薄膜的透射率略有增加, 薄膜的折射率和吸收系数增大, 薄膜的光学带隙减小;同时,薄膜表面粗糙度减小,薄膜变得平整. 关键词:TiO2薄膜;直流反应磁控溅射;衬底温度;光学特性; 包络线法中图分类号:O484 ------------------------------------------------------------------------------------------------ ——————————————————————————————————————文献标识码:A 文章编号: 1009-671X ( 2010 ) 06-0061 -04 Theopticalpropertiesoftitan iumdioxidethinfilms ronsputtering (SchoolofPhysicsScienceandT echnology , CentralSouthUniversi ty,Changsha410083,China) ZHOUJi-cheng , CHENYu , ZHAOBao- xing Abstract : TiO2thinfilmswerepr eparedonglassbyDCreactivemagn etronsputtering . Thesurfacemorp hologyof thefilmswasobservedbyAFMand thetransmissionspectraweremea suredbyUV-VIStransmittancespe ctro-scope . Theopticalpropertie softhefilmsatdifferentsubstra tetemperaturehavebeenstudiedu ------------------------------------------------------------------------------------------------ —————————————————————————————————————— singtheenvelopemethod . Theresul tsshowthatthefilmhasveryhight ransparencyinvisiblelightwave band , besides , withthein-creaseo fsubstratetemperature , thetrans parencyincreasesslightly , there fractiveindexandtheabsorption coeffi-cientofTiOMeanwhile , the surfaceroughnessdecreases2thi nfilmsincrease , andtheopticalba ndgapdecreases . eseven. Keywords : TiO2thinfilm ; DCreac ronsputtering ; substr atetemperature ; opticalproperti es;envelopemethod TiO2薄膜是一种重要的半导体薄膜材料, 这种材料具有高折射率、低吸收系数以及优良的可见光传输特性、化学稳定性和介质绝缘性能等诸多优点,而被广泛应用于减反射膜化料[3] [1] 面方法的缺点,具有沉积温度低,薄膜附着性好,膜厚均匀,易-----------------------------------------------------------------------