多晶硅工艺流程.doc

多晶硅工艺流程简述(改良西门子法及氢化)氢气制备与净化工序  在电解槽内经电解脱盐水制得氢气。电解制得的氢气经过冷却、分离液体后,进入除氧器,在催化剂的作用下,氢气中的微量氧气与氢气反应生成水而被除去。除氧后的氢气通过一组吸附干燥器而被干燥。净化干燥后的氢气送入氢气贮罐,然后送往***化氢合成、三***氢硅氢还原、四***化硅氢化工序。  电解制得的氧气经冷却、分离液体后,送入氧气贮罐。出氧气贮罐的氧气送去装瓶。气液分离器排放废吸附剂、氢气脱氧器有废脱氧催化剂排放、干燥器有废吸附剂排放,均供货商回收再利用。***化氢合成工序  从氢气制备与净化工序来的氢气和从合成气干法分离工序返回的循环氢气分别进入本工序氢气缓冲罐并在罐内混合。出氢气缓冲罐的氢气引入***化氢合成炉底部的燃烧枪。从液***汽化工序来的***气经***气缓冲罐,也引入***化氢合成炉的底部的燃烧枪。氢气与***气的混合气体在燃烧枪出口被点燃,经燃烧反应生成***化氢气体。出合成炉的***化氢气体流经空气冷却器、水冷却器、深冷却器、雾沫分离器后,被送往三***氢硅合成工序。  为保证安全,本装置设置有一套主要由两台***化氢降膜吸收器和两套盐酸循环槽、盐酸循环泵组成的***化氢气体吸收系统,可用水吸收因装置负荷调整或紧急泄放而排出的***化氢气体。该系统保持连续运转,可随时接收并吸收装置排出的***化氢气体。为保证安全,本工序设置一套主要由废气处理塔、碱液循环槽、碱液循环泵和碱液循环冷却器组成的含***废气处理系统。必要时,***气缓冲罐及管道内的***气可以送入废气处理塔内,用氢氧化钠水溶液洗涤除去。该废气处理系统保持连续运转,以保证可以随时接收并处理含***气体。三***氢硅合成工序  原料硅粉经吊运,通过硅粉下料斗而被卸入硅粉接收料斗。硅粉从接收料斗放入下方的中间料斗,经用热***化氢气置换料斗内的气体并升压至与下方料斗压力平衡后,硅粉被放入下方的硅粉供应料斗。供应料斗内的硅粉用安装于料斗底部的星型供料机送入三***氢硅合成炉进料管。  从***化氢合成工序来的***化氢气,与从循环***化氢缓冲罐送来的循环***化氢气混合后,引入三***氢硅合成炉进料管,将从硅粉供应料斗供入管内的硅粉挟带并输送,从底部进入三***氢硅合成炉。  在三***氢硅合成炉内,硅粉与***化氢气体形成沸腾床并发生反应,生成三***氢硅,同时生成四***化硅、二***二氢硅、金属***化物、聚***硅烷、氢气等产物,此混合气体被称作三***氢硅合成气。反应大量放热。合成炉外壁设置有水夹套,通过夹套内水带走热量维持炉壁的温度。出合成炉顶部挟带有硅粉的合成气,经三级旋风除尘器组成的干法除尘系统除去部分硅粉后,送入湿法除尘系统,被四***化硅液体洗涤,气体中的部分细小硅尘被洗下;洗涤同时,通入湿氢气与气体接触,气体所含部分金属氧化物发生水解而被除去。除去了硅粉而被净化的混合气体送往合成气干法分离工序。合成气干法分离工序  从三***氢硅氢合成工序来的合成气在此工序被分离成***硅烷液体、氢气和***化氢气体,分别循环回装置使用。  三***氢硅合成气流经混合气缓冲罐,然后进入喷淋洗涤塔,被塔顶流下的低温***硅烷液体洗涤。气体中的大部份***硅烷被冷凝并混入洗涤液中。出塔底的***硅烷用泵增压,大部分经冷冻降温后循环回塔顶用于气体的洗涤,多余部份的***硅烷送入***化氢解析塔。  出喷淋洗涤塔塔顶除去了大部分***硅烷的气体,用混合气压缩机压缩并经冷冻降温后,送入***化氢吸收塔,被从***化氢解析塔底部送来