2000 lmm X射线镂空透射光栅的制备研究.pdf

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Xlmm李海亮1刘3吴21言Imm引光学报X宽、能量响应平滑、谱面平直等优点,并且能够方便地同时间、空间分辨仪器相结合,构成能同时诊断等XX第卷第期文章编号:———1100029、本┕ひ荡笱Ъす夤こ萄芯吭海本中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳/X刻技术相结合,研究了制造X镂空聚酰亚胺薄膜底衬上制备湎吣腹庹ぱ谀!H缓罄肵射线光刻和微电镀技术实现了光栅图形的复制,之后采用紫外光刻和微电镀技术制作加强筋结构。最后通过腐蚀体硅和等离子体刻蚀聚酰亚胺完成镂空透射光栅的制作。,占空比合理,侧壁陡直,不同光栅之间一致性好,完全XX文献标识码,SciencesBeltingEngineeringBeOing。琈琒收稿日期:——;收到修改稿日期:——973(2007CB935302)(60825403)作者简介:李海亮,男,硕士研究生,主要从事高线密度衍射光学元件研制方面的研究。导师简介:吴坚,。主要从事微细加工方面的研究。:,、-******@V0129No10October2009TechnologyInstitute100029China100022ChinaFusionChina瓹。designedAnd—畆瑃猺—.畉substrateThen猠琧maskAndutraviolet(UV),smoothnessthedesired籜·
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Q-seff-standingstructure2且‰籪,其中寻,¨τ玫确矫妗射X学元件口拦蒲Ъ已兄频腃X340痳片低能透射光栅传统的光栅制作工艺有全息曝光、机械刻划和电子束曝光等。机械刻划和电子束曝光由于对设备和环境要求苛刻,并且制备周期长,价格昂贵,不适合小批量稳定生产H⒐饪讨谱鱔射线透射光栅的优点是效率高、成本低,有效面积大,可以批量制作高线密度湎咄干涔庹た凇。美国的MIT底衬的湎咄干涔庹,并广泛应用于各个领域;中国科学院微电子研究所采用电子XlramX度透射光栅在空间探测,同步辐射等特殊的应用环X的吸收非常严重,这极大地降低了透射光栅的工作效率和在解谱过程中的不确定性。中国科技大学采用全息光刻和离子束刻蚀的方法研制成功了lramX栅。但在全息光刻中,控制不同区域光栅图形的一4此外,近年来曹磊峰提出了谱学光子筛的新概念,利用谱学光子筛可以得到更高的分辨率,同时降低对光刻技术制作工艺的要求,而且其微孔的随机分布,能够有效抑制光轴方向的高阶衍射和横向旁瓣效应,改善成像对比度。而全息光刻只能用于周期图形的制作,无法胜任谱学光子筛的制作,在尚需进一步研究。X散元件,对IramX的、稳定的制造工艺技术的研究显得非常迫切。本XXX艺稳定的特点,并且对制造过程中的若干关键问题进行了详细的研究。X1上,栅线之间的聚酰亚胺薄膜被去除,栅线成为完全镂空的结构,栅线两端由自支撑结构忧拷连接。根据以上光栅模型,光栅栅线截面采用矩m(q)T(q)X率晕薜壮淖灾С磐干涔庹ぃ琓,猉射M(X)aidz厚度,是为栅线材料光学常量的虚