溅射功率对氧化锡薄膜结构和电化学性能的影响.pdf

万方数据
溅射功率对氧化锡薄膜结构和电化学性能的影响1杰馄艋,郑明森馑锾摇Вǚ‘实验方法2电化学(SnO)水蒸气发生反应,具有较高的比容量和良好的循环性能,是目前研究较多的一种全固态薄膜锂离子电其薄膜的制备方法包括电子束沉积法、溶胶一凝胶法、脉冲激光法、化学气相沉积法、真空蒸发、磁控溅射法等,但不同的制备方法得到的薄膜结构不同,,研究不同溅射功率对制备的薄膜结构以及电化学性能JC50023DSiOSi(111)TiAu收集极,.%的金属靶做靶材,衬底温度固定12133,靶片与基片间mill(50薄膜,溅射时间为x(XRDPanalyficalxrt电镜,》⑸)BT-2000公司鱈疭,∧さ腦射180WW(112)又随着溅射功率的减小,样品的衍射峰减少,峰强(101)外,由薄膜的苌淦咨厦挥屑觳獾絊峰SnO2007-09152007-12-******@******@muedu摘要:关键词:,氧气与氩气流量比距为W在衬底上溅射制备氧化锡和扫描的薄膜材料为工作电极,金属锂片为对电极和参比电极,电解液为甇疞DMC(1llbyArbin在!!(110)(101)(211)(112)∧ぶ辉处几乎呈现非晶态;,.141200821006-3471(2008)014)066-,福建厦门;2361005妹糯笱径拔⒒缪芯恐行模=ㄏ妹应用射频磁控溅射技术在硅基底上制备氧化锡薄膜,,随着溅射功率的增大,薄膜的结晶程度提高;生长速率和晶粒尺寸增大;电池的贮锂容量减少,;阳极材料;磁控溅射;电化学性能w801807)minV0114No1Feb2008
万方数据
1畏诺缛萘孔罡呖纱莌/ず雖,最低也电化学性能测试+,随着溅射功率的增加,,薄膜表面出现裂缝,颗粒边缘模壤。在较高功率下,薄貘表露数密而且颗粒清晰,在高倍显微镜下,可肴到大的颗粒是由小颗粒团聚在一起组成的,大颗粒的缝隙l50Φ腤条传下,薄膜出现裂缝的原因可熊是在低的溅射功率下,从靶上溅射出来的速率减小,从而使原子数目减少,∧,以及根据厚度鞣3面结合良好,∥V4有型ǎ痚·辞越。在Ⅴ赪帮溅射蔡敏囊等:溅射功率对氧亿锡薄簇结毒句程电纯学性能懿影喃圈淦荡趴亟ι浞ㄖ票傅难趸∧さ腦射线衍射谱em20112戚l3150WSEM图淦荡趴亟ι浞ㄖ票傅难趸∧さ腟照片sputteringpowerWa)50b)80c)120d)t50e)180··
万方数据