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第三章有机反应的选择性与控制.ppt


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第三章有机反应的选择性与控制
工作总结
商务报告
商务展示
工作计划
铑催化剂是碳碳双键选择性氢化的有效催化剂,用于烯烃的氢化,避免含氧基团被还原。通常只还原位阻最小的单取代或双取代双键
3、立体二甲醇将醇羟基甲氧***化生成
5)、甲氧基甲醚(MOM)
甲氧基甲醚能稳定存在的范围:pH=3-14范围稳定,亲核试剂、氧化剂、有机金属试剂、催化氢化(除酸性条件下)、氢化物还原试剂可溶性金属还原等存在时均不受影响
甲氧基甲醚的去保护方法:盐酸甲醇溶液、盐酸/THF溶液、硫酸/乙酸溶液
甲氧基甲醚遇酸的稳定性不如简单的醚,利用甲氧基甲醚遇酸稳定性较差,可选择酸水解脱保护基。
制备:醇在氢化钠等强碱作用下形成烃氧基负离子与2-甲氧基乙氧******(ClCH2OCH2CH2OCH3)反应生成MEM醚或2-甲氧基乙氧******与叔***形成的季铵盐与醇直接作用
6)、2-甲氧基乙氧***醚(MEM)
2-甲氧基乙氧***醚的去保护方法:溴化锌/二***甲烷;四***化钛/二***甲烷。MEM醚的生成和裂解都是在非质子性溶剂中进行的
在AcOH-H2O;TsOH/MeOH酸性条件下,不发生裂解
含活泼氢的基团都可以用硅烷化保护。反应的ROH>ArOH>COOH>NH>CONH>SH
常见的硅醚:三***硅醚(R-O-SiMe3,R-O-TMS)
三乙基硅醚(R-O-SiEt3,R-O-TES)
三异丙基基硅醚(R-O-Si(i-Pr3),R-O-TIPS)
叔丁基二***硅醚(R-O-Si(Me2)t-Bu,R-O-TBDMS)
7)、硅烷基醚
(1)三***硅醚(R-O-SiMe3,R-O-TMS)
制备:醇与三***硅烷化试剂作用,三***硅醚极不稳定,制备过程需保持无水
格氏试剂(亲核试剂)、氢化反应、氢化物还原等都会影响三***硅醚;只能暂时保护羟基。
三***硅醚的去保护:酸或碱性条件下,遇水即可分解
制备:由醇与叔丁基二******硅烷( t-Bu (Me2)SiCl )
(2 )叔丁基二***硅醚(R-O-Si(Me2)t-Bu,R-O-TBDMS)
叔丁基二***硅醚去保护的方法:***化氢水溶液、***化四丁铵、硫酸铜/***和对甲苯磺酸
叔丁基二***硅醚能稳定存在的范围:pH=4-12范围稳定,适用于亲核反应、氧化反应、有机金属试剂、催化氢化、氢化物还原试剂可溶性金属还原等条件下的羟基保护
叔丁基二***硅的位阻,硅烷化反应选择在伯羟基
(1) 形成乙酸酯类
§ 二、酯类保护基
制备:由醇和酸酐或酰卤在碱存在下制取
去保护的方法:碱水解或碱醇碱法
乙酸酯稳定存在的范围:pH=1-8;在路易斯酸、氧化反应等条件下可稳定存在
(2) 形成苯甲酸酯类
制备:由醇和酸酐或酰卤在碱存在下制取
去保护的方法:碱水解;锂铝氢还原法
苯甲酸酯类稳定存在的范围:在路易斯酸、氧化反应、有机金属试剂、催化氢化、硼氢化合物还原等条件下可稳定存在
反应方法:醇与酸酐、酰卤在吡啶或三乙***存在下反应;在多羟基化合物中,伯羟基最易酯化,仲羟基次之,叔羟基最难。
(3)新戊酸酯
去保护方法:常需要较强的碱性体系(KOH-MeOH);也可选用氢化铝锂在低温下去保护
保护方法:形成缩醛或缩***;
常用的醛***:***、环己***、苯甲醛或其烯醇醚(2-甲氧基丙烯)、缩二甲醇
缩醛或缩***稳定存在的范围:在中性或碱性条件作保护基、并且对锂铝氢还原、钠-***齐还原、催化氢化还原(除苄叉基醛缩醇,***缩醇)、氧化剂(CrO3/Py,NaIO4,Pb(OAc)4,KMnO4)等条件下无反应
去保护条件:酸性条件下水解
§ 羟基的保护 三、1,2-和1,3二醇的保护
应用:
§、***的保护 一、缩醛、缩***
制备:
缩醛或缩***稳定存在的范围:pH=4-12范围内稳定,对碱、氧化剂、还原剂稳定
去保护方法:酸催化水解
反应常用的试剂:甲醇、1,2-二醇、 1,3-二醇,
醛***的反应活性:
醛>链状羰基(环己***)>环戊***>α,β-不饱和***>苯基***
完成下列转化:
§、***的保护 二、二硫代缩醛、缩***
制备:醛***与硫醇在酸催化下反应制取
稳定存在的范围: pH=4-12范围内,还原剂、亲核试剂、有机金属试剂存在下稳定。硫醚易被氧化。优点在于对酸的稳定性好
去保护方法:***化***水溶液;银盐、铜盐、钛盐等可用于催化水解;
§

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  • 上传人孔乙己
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  • 时间2022-05-17