4频磁控溅射ZNO：AL薄膜结构和性能的影响（精选）.pdf

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第��卷,第�期�光谱实验室����.���。��.��
�������年�月�����������������������������������������������, ��������
氩气压强对射频磁控溅射���:��薄膜�
结构和性能的影响�
刘著光��杨伟锋“�吕英“�黄火林“�吴�����
口�厦门大学物理系福建省厦门市��������
��厦门大学萨本栋微机电中心福建省厦门市��������
摘�要�以���:�����为靶材在石英玻璃衬底上射频磁控溅射制备多晶������������薄膜,通过�
���、���以及����效应、透射光谱等测试研究了��溅射压强对薄膜结构、电学与光学性能的影响。分�
析表明:所制备的薄膜具有�轴择优取向,当压强为�.���时薄膜的电阻率降至最低��.�×����· ���。�
薄膜在可见光区平均透射率高于��%,光学带隙均大于本征���的禁带宽度。�
关键词��磁控溅射,透明导电薄膜,���薄膜。�
中图分类号:����.���文献标识码:��文章编号:����—������������—����—���
��引言�
透明导电氧化物�����具有低的电阻率、可见光区高的透射率,在光电领域有着广泛的应用�
前景Ⅲ。目前在���材料中以产业化的���材料最为成熟,但铟为稀有元素并且会引进重金属污�
染,所以迫切要求开发非铟系的透明导电氧化物材料来替代���。���基材料因其具有较好的化�
学和机械稳定性,高的抗还原性且自然界储量丰富,被认为是最具发展潜力的���替代材料��。�
目前沉积���薄膜的主要方法包括电子束蒸发�,激光脉冲沉积������Ⅲ,溶胶凝胶法�纠,金属有�
机物化学气相沉积���������以及各种方法的�
磁控溅射等����。其中磁控溅射有着成膜均匀致�
密且工艺简单,成本低等优点。本文采用射频磁�
控溅射法在玻璃衬底上制备���薄膜并就���
’气偏压对薄膜的组织结构、电学、光学性能的影�
响进行了研究�
��实验部分�
实验采用的靶材国产为���:����。陶瓷�
靶,纯度��.���,����。的掺杂量�.����;衬底�
为石英玻璃,制备前用甲苯、丙酮、乙醇及去离子�
水进行超声清洗;溅射前本底真空达到�×��一��扫描角度����
��,电离气体为��.���%的高纯氩气。溅射采用�图�不同氩气压强下���薄膜的���谱�
射频模式,沉积条件为功率����,压强�.���.���,衬底温度为室温。实验中用美国�������
�������������������利用�����������方法测试薄膜的载流子浓度,迁移率以及电阻率。薄膜结构�
采用荷兰������������公司的�’��������粉末�射线衍射仪进行分析,表面形貌采用日本�
①联系人,手机:��������������;�—����:������������������.����
作者简介:刘著光�����一�,男,福州市人,在读硕士研究生,主要从事���:��透明导电薄膜的研究和应用工作
。�
收稿日期:����—��—��;接受日期����